首先聲明一下，在這里表達(dá)的只是個(gè)人看法，并不一定有道理。 d/fg  
關(guān)于鍍膜，大家都追求的是鍍膜的連續(xù)性和穩(wěn)定性。 CPto?=*A  
甚至為了穩(wěn)定性，一些鍍膜機(jī)廠家寧可犧牲性能。 pW>?%ft.  
比如說(shuō)鍍膜過(guò)程中使用APC充氧： -J$,W`#z  
很多人認(rèn)為APC充氧只是為了給類(lèi)似于TiO2這些易失氧膜料進(jìn)行補(bǔ)氧。 )S;pYVVAl  
其實(shí)不然。使用離子源的情況下，氧其實(shí)是足夠的。 CQ`$' oy?W  
APC充氧還有一個(gè)重要的目的，維持鍍膜環(huán)境的穩(wěn)定性。 M+akD  
APC是自動(dòng)壓力控制的英文縮寫(xiě)，它能起到穩(wěn)定真空腔體真空度的作用。 CSC sJE#4
 
f`dQ $Kh  
在真空中，有個(gè)平均自由程的概念，一個(gè)粒子平均運(yùn)動(dòng)多遠(yuǎn)才能和其他粒子碰撞。 GRt1]%l#$  
真空度越高，平均自由程越長(zhǎng)，電子槍和離子源發(fā)出來(lái)原子或者離子就會(huì)更多的到達(dá)基板表面。 p%8v+9+h2  
但是隨著腔體的逐漸變臟，鍍膜時(shí)候的真空度會(huì)變差，到達(dá)基板的原子和離子就會(huì)變少。 ># {,(8\  
一般會(huì)表現(xiàn)為外圈和內(nèi)圈的分布變化，還有折射率的變化。 oY#62&wk4  
為了讓分布和折射率穩(wěn)定，在鍍膜過(guò)程中使用APC是個(gè)解決的辦法。 L1'#wH  
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APC充氧口（也有充氮，充其他氣體的）的位置也很重要。  tdl Y  
如果是補(bǔ)氧和維持真空度兼而有之的，一般充氧口放在底板的中心位置。 Xlw8>.\  
如果有其他特殊原因（比如說(shuō)工藝和外觀的要求），會(huì)有在傘圈下方100mm處放置一個(gè)充氧環(huán)， B-@ ]+W  
均勻開(kāi)孔以便于均勻充氧。

補(bǔ)充幾個(gè)和真空相關(guān)的因素： kiW|h)w_,v  
1，真空計(jì)污染：皮拉尼真空計(jì)容易受污染， t3~ZGOn  
所以清掃機(jī)臺(tái)的時(shí)候最好拆掉。清掃完再裝上。 #hA]r.  

C&&*6E5  
2，擴(kuò)散泵返油：使用劣質(zhì)回收油，或者擴(kuò)散泵口冷卻板冷卻不好的時(shí)候， IEx`W;V]K  
擴(kuò)散泵容易返油，返油也會(huì)造成脫膜，膜質(zhì)不好，分布問(wèn)題。

我都關(guān)掉鍍膜,因?yàn)镹BPF蒸鍍機(jī)開(kāi)了鍍膜DWDM鍍不出來(lái) j^t#>tZS  
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