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摘要: J\Db8O-/x4 @4G{L8Q} VirtualLab (VL) 為用戶提供了一個(gè)好的指導(dǎo)方法以用于創(chuàng)建光學(xué)系統(tǒng)來(lái)對(duì)期望的光柵進(jìn)行分析。 tH=jaFJ 該案例主要對(duì)一個(gè)線性正弦光柵(周期在一個(gè)方向)的近場(chǎng)和透射衍射級(jí)次的效率進(jìn)行了基礎(chǔ)研究。 &'k:?@J[ KwNOB _ 兩種不同周期線性正弦光柵結(jié)果的對(duì)比: >-,$ 光柵周期遠(yuǎn)大于波長(zhǎng) +#L'gc 光柵周期在波長(zhǎng)范圍 U1Y0G[i) v]\T&w%9 建模任務(wù) |G)P
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1 l}@C'Np 多次反射 l?A~^4(5a/ =6a=`3r!I T9FGuit9 ■ 傅里葉模態(tài)方法是一種嚴(yán)格的方法,它考慮了光柵元件內(nèi)部多次反射。 .oM;D~(=9 ■ 光柵工具箱通常默認(rèn)輸入光為無(wú)限擴(kuò)展的平面波。 E|3[$?=R ■ 對(duì)于這樣的無(wú)限平面波,其相應(yīng)的多次反射效應(yīng)會(huì)對(duì)結(jié)果產(chǎn)生不同的影響,當(dāng)輸入光尺寸有限時(shí),其多重反射效應(yīng)消退的更明顯。因此在某些情況下,我們希望忽略這些多次反射。 &r+!rL Kp ■ 例如,如果你對(duì)一個(gè)周期性表面的影響感興趣– 如本案例中–由于單一相應(yīng)介質(zhì)轉(zhuǎn)換,可對(duì)該效應(yīng)進(jìn)行研究。 'w0?- uuQsK. S 無(wú)多次反射的研究 fI,2l
■ 我們?cè)诨變?nèi)部設(shè)置探測(cè)器, 直接位于光柵結(jié)構(gòu)后方。 O03F@v d*x&Uh[K ■ 盡管光源和光柵元件以及光柵元件和虛擬屏間距離設(shè)置為0,但必須設(shè)置介質(zhì),這樣才能保證正確的轉(zhuǎn)換。 d ATAH}r& 9*P-k.Bl 計(jì)算 5Y 7 %Z W=y9mW|p/ M?5v
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