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    [培訓(xùn)]六月線下課程培訓(xùn)——從薄膜原理設(shè)計到工藝 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2023-04-24
    [table=1200,#e9f0f3,,1][tr][/tr][tr][td=2,1] JclG*/Wjg4  
    時間地點:[/td][/tr][tr][td=2,1] ,OaPrAt-  
    主辦單位:訊技光電科技(上海)有限公司; 蘇州黌論教育咨詢有限公司 -]vPF|  
    授課時間: 2023年6月9日(五)-11日(日)  AM 9:00-PM 16:00 gPM<LO`;i  
    授課地點:上海市嘉定區(qū)南翔銀翔路819號中暨大廈18樓1805室 <-a6'g2y  
    課程講師:訊技光電高級工程師&資深顧問 ePwoza  
    課程費用:4800RMB(課程包含課程材料費、開票稅金、午餐費用)[/td][/tr][tr][td=2,1]課程概要:[/td][/tr][tr][td=2,1] JlN<w  
    當(dāng)收到需求者的光學(xué)規(guī)格及非光學(xué)規(guī)格如環(huán)境測試要求時,既可以著手選用所需的基板,鍍膜材料及膜數(shù)與厚度設(shè)計。設(shè)計開始可以從標(biāo)準(zhǔn)膜系著手,例如高反射鏡不管波寬大小,開始我們一定是以四分之一波膜堆為設(shè)計基礎(chǔ),倘若是截止濾光片,則應(yīng)以對稱膜堆為設(shè)計基礎(chǔ)。當(dāng)初始設(shè)計無法滿足要求時,我們需要考慮商業(yè)軟件或自行設(shè)計電腦軟件來參與合成或優(yōu)化,設(shè)計好之后,即刻進(jìn)行制造成功率分析,亦看膜層厚度的誤差值的容許度,若是鍍膜機(jī)的精密度做不到,則要修改設(shè)計,重新分析直達(dá)合格為止。 7S]akcT/  
    透明塑料基板質(zhì)輕價廉,而且容易成型為非球面透鏡,被廣泛采用在光學(xué)系統(tǒng)中,如眼睛鏡片、相機(jī)透鏡、手機(jī)鏡頭、及顯示器面板,如OLED,近眼顯示應(yīng)用。但塑性及軟性基板的低密度致使其具有吸水性,從而使薄膜與基板的附著性不佳。再者這些塑料基板比較柔軟、容易刮傷、需要鍍上硬膜保護(hù)。因此塑料透鏡的鍍膜除了抗反射,還要兼具免受刮傷的保護(hù)。本課程會從這些方面重點闡述塑料基底的鍍制工藝及其物理特性。 !T8h+3 I  
    該課程一天會全面講解光學(xué)薄膜分析軟件Essential Macelod的操作方法,第二天和第三天會講解薄膜設(shè)計和工藝上面的應(yīng)用。[/td][/tr][tr][td=2,1][/td][/tr][tr][td=2,1]課程大綱:[/td][/tr][tr][td=1,1,554] /M8&`  
    1. Essential Macleod軟件介紹 x[H9<&)D  
    1.1 介紹軟件 tm280  
    1.2 運行程序 C{Er%  
    1.3 創(chuàng)建一個簡單的設(shè)計  Wfyap)y  
    1.4 繪圖和制表來表示性能 3eS *U`_  
    1.5 3D繪圖-用兩個變量繪圖表示性能 n g?kl|VG  
    1.6 創(chuàng)建一個默認(rèn)設(shè)計 niP/i  
    1.7 文件位置 hiA%Tq?  
    1.8 通過剪貼板和文件導(dǎo)入導(dǎo)出數(shù)據(jù) ZA/:\6gm  
    1.9 約定-程序中使用的各種術(shù)語的定義 $P%b?Y/  
    1.10厚度(物理厚度,光學(xué)厚度[FWOT,QWOT],幾何厚度) k'$UA$2d  
    1.11 單位定義 9-?[%8  
    1.12 軟件如何進(jìn)行數(shù)據(jù)插值 ZAcW@xfb  
    1.13 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) )\r;|DN  
    1.14 特定設(shè)計的公式技術(shù) v %fRq!~  
    1.15 交互式繪圖 Oe*+pReSD  
    2. 光學(xué)薄膜理論基礎(chǔ) vT>ki0P_;  
    2.1 介質(zhì)和波 6H_7M(f  
    2.2 垂直入射時的界面和薄膜特性計算 P~"`Og+  
    2.3 傾斜入射時的界面和薄膜特性計算 /SDDCZ`;|c  
    2.4 后表面對光學(xué)薄膜特性的影響 ^l"  
    2.5 光學(xué)薄膜設(shè)計理論 Q:~>$5Em5  
    3. 理論技術(shù) %.*?i9}  
    3.1 參考波長與g 6S2v3  
    3.2 四分之一規(guī)則 ROB/#Td  
    3.3 導(dǎo)納與導(dǎo)納圖 rG|*74Q]  
    3.4 斜入射光學(xué)導(dǎo)納 nXuoRZ  
    3.5 對稱周期 ]ZOzqh_0C  
    4. 光學(xué)薄膜設(shè)計 Tp0^dZ