[table=1200,#e9f0f3,,1][tr][/tr][tr][td=2,1] ANNfL9:Jy  
時(shí)間地點(diǎn)：[/td][/tr][tr][td=2,1] &D "$N"  
主辦單位：訊技光電科技（上海）有限公司； 蘇州黌論教育咨詢有限公司 }JXAG/<  
授課時(shí)間： 2023年6月9日（五）-11日（日）  AM 9:00-PM 16:00 _cqBp7  
授課地點(diǎn)：上海市嘉定區(qū)南翔銀翔路819號(hào)中暨大廈18樓1805室  7(;M  
課程講師：訊技光電高級(jí)工程師&資深顧問 c}a.  
課程費(fèi)用：4800RMB(課程包含課程材料費(fèi)、開票稅金、午餐費(fèi)用)[/td][/tr][tr][td=2,1]課程概要：[/td][/tr][tr][td=2,1] / vI sX3v  
當(dāng)收到需求者的光學(xué)規(guī)格及非光學(xué)規(guī)格如環(huán)境測(cè)試要求時(shí)，既可以著手選用所需的基板，鍍膜材料及膜數(shù)與厚度設(shè)計(jì)。設(shè)計(jì)開始可以從標(biāo)準(zhǔn)膜系著手，例如高反射鏡不管波寬大小，開始我們一定是以四分之一波膜堆為設(shè)計(jì)基礎(chǔ)，倘若是截止濾光片，則應(yīng)以對(duì)稱膜堆為設(shè)計(jì)基礎(chǔ)。當(dāng)初始設(shè)計(jì)無(wú)法滿足要求時(shí)，我們需要考慮商業(yè)軟件或自行設(shè)計(jì)電腦軟件來參與合成或優(yōu)化，設(shè)計(jì)好之后，即刻進(jìn)行制造成功率分析，亦看膜層厚度的誤差值的容許度，若是鍍膜機(jī)的精密度做不到，則要修改設(shè)計(jì)，重新分析直達(dá)合格為止。 `)
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透明塑料基板質(zhì)輕價(jià)廉，而且容易成型為非球面透鏡，被廣泛采用在光學(xué)系統(tǒng)中，如眼睛鏡片、相機(jī)透鏡、手機(jī)鏡頭、及顯示器面板，如OLED，近眼顯示應(yīng)用。但塑性及軟性基板的低密度致使其具有吸水性，從而使薄膜與基板的附著性不佳。再者這些塑料基板比較柔軟、容易刮傷、需要鍍上硬膜保護(hù)。因此塑料透鏡的鍍膜除了抗反射，還要兼具免受刮傷的保護(hù)。本課程會(huì)從這些方面重點(diǎn)闡述塑料基底的鍍制工藝及其物理特性。 7q>WO  
該課程一天會(huì)全面講解光學(xué)薄膜分析軟件Essential Macelod的操作方法，第二天和第三天會(huì)講解薄膜設(shè)計(jì)和工藝上面的應(yīng)用。[/td][/tr][tr][td=2,1][/td][/tr][tr][td=2,1]課程大綱：[/td][/tr][tr][td=1,1,554] eeX^zaKl]  
1. Essential Macleod軟件介紹 DGl_SMJb  
1.1 介紹軟件 ozZW7dveU  
1.2 運(yùn)行程序 !Pf_he  
1.3 創(chuàng)建一個(gè)簡(jiǎn)單的設(shè)計(jì) TFbMrIF  
1.4 繪圖和制表來表示性能 F V8K_xj  
1.5 3D繪圖-用兩個(gè)變量繪圖表示性能 A"t~ )  
1.6 創(chuàng)建一個(gè)默認(rèn)設(shè)計(jì) *ip2|2G$  
1.7 文件位置 */iD68r|-  
1.8 通過剪貼板和文件導(dǎo)入導(dǎo)出數(shù)據(jù) ;/$=!9^sZ  
1.9 約定-程序中使用的各種術(shù)語(yǔ)的定義 zY\pZG  
1.10厚度（物理厚度，光學(xué)厚度[FWOT,QWOT]，幾何厚度） bce>DLF  
1.11 單位定義 fD3}s
#M*G  
1.12 軟件如何進(jìn)行數(shù)據(jù)插值 5?+ECxPt  
1.13 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） xS%
Z   
1.14 特定設(shè)計(jì)的公式技術(shù) 1b:3'E.#w  
1.15 交互式繪圖 eMk?#&a)  
2. 光學(xué)薄膜理論基礎(chǔ) 5mwtlC':l?  
2.1 介質(zhì)和波 vdFy}#X  
2.2 垂直入射時(shí)的界面和薄膜特性計(jì)算 R}MdBE  
2.3 傾斜入射時(shí)的界面和薄膜特性計(jì)算 .4c*  _$  
2.4 后表面對(duì)光學(xué)薄膜特性的影響 lf4V;|!^  
2.5 光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)理論 FA-""]  
3. 理論技術(shù) 7iCH$}  
3.1 參考波長(zhǎng)與g P?GHcq$\  
3.2 四分之一規(guī)則 t#tAvwFM8  
3.3 導(dǎo)納與導(dǎo)納圖 M>+FIb(  
3.4 斜入射光學(xué)導(dǎo)納 T `x:80  
3.5 對(duì)稱周期 *oAv:8"iY  
4. 光學(xué)薄膜設(shè)計(jì) (Zi(6 T\z  
4.1 光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)的進(jìn)展 QR<z%4  
4.2 光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)中的一些實(shí)際問題 ]J;pUH+u  
4.3 光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)技巧 ">vxYi  
4.4 特殊光學(xué)薄膜的設(shè)計(jì)方法 0|<ER3xkx  
4.5 Macleod軟件的設(shè)計(jì)與優(yōu)化功能 pPt7M'uL"  
4.5.1 優(yōu)化目標(biāo)設(shè)置 QXZjsa_|  
4.5.2 優(yōu)化方法（單一優(yōu)化，合成優(yōu)化，模擬退火法，共軛梯度法，準(zhǔn)牛頓法，針形優(yōu)化，差分演化法） =e'b*KTL,  
4.5.3 膜層鎖定和鏈接 M{gtu'.  
5. 常規(guī)光學(xué)薄膜系統(tǒng)設(shè)計(jì)與分析 1&A@Zo5|  
5.1 減反射薄膜 ".