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    [技術(shù)]基于橢圓偏振法的光學(xué)薄膜測量 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2023-05-08

    橢圓偏振法是一種光學(xué)測量方法,它利用了光在被表面反射(或透過)時(shí)發(fā)生的偏振變化,例如塊狀材料薄膜。隨著時(shí)間的推移,它在半導(dǎo)體和光學(xué)涂層應(yīng)用中得到了普及,因?yàn)榕c傳統(tǒng)的反射測量相比,它的靈敏度更高。 因此,橢圓偏振法現(xiàn)在被用來準(zhǔn)確地表征不同樣品的成分、粗糙度、厚度、結(jié)晶特性、導(dǎo)電性和其他材料特性。

    在最新發(fā)布的快速物理光學(xué)軟件VirtualLab Fusion 2023.1中,橢圓偏振分析器已被添加到該軟件不斷增加的功能陣列中。它提供了一個(gè)簡單明了的方法,通過在模擬產(chǎn)生的電磁場結(jié)果上應(yīng)用橢圓偏振的概念來研究涂層、多層結(jié)構(gòu)和光柵的特性。此外,它還提供了在分析儀內(nèi)自動(dòng)掃描波長和入射角的可能性,從而方便地生成典型的橢圓偏振曲線,這些曲線在擬合到一個(gè)模型后,可以繼續(xù)揭示我們試圖從這些實(shí)驗(yàn)中獲得的材料特性。你可以在下面找到解釋如何使用這個(gè)新的分析儀的文件鏈接,以及一個(gè)應(yīng)用于二氧化硅涂層測量的例子。

    橢圓偏振分析器

    本用例展示了橢圓偏振法的基本原理,并說明了VirtualLab Fusion中內(nèi)置的橢圓儀分析器的使用。

    SiO2涂層的可變角度光譜橢圓偏振(VASE)分析

    本用例說明了在VirtualLab Fusion中實(shí)現(xiàn)的橢圓偏振分析器在文獻(xiàn)中的使用:Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999).

     
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