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    [產(chǎn)品]《基于Essential Macleod軟件的光學(xué)薄膜設(shè)計技術(shù)》(第二版 精裝) [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2023-05-29
    )C(>H93  
    內(nèi)容簡介 8bK|:B#6,  
    Macleod軟件自帶的用戶手冊功能全面,其介紹涵蓋了軟件的方方面面,能夠使用戶快速的了解和熟悉軟件的基本操作。然而,為了順應(yīng)目前薄膜行業(yè)的需求,急需一本能夠契合軟件設(shè)計和實(shí)際加工需要的專業(yè)書籍,以能夠幫助薄膜領(lǐng)域的同行高效的完成相關(guān)工作,因此,我們特別推出了《基于Essential Macleod軟件的光學(xué)薄膜設(shè)計技術(shù)》。 _iKq~\v2  
    《基于Essential Macleod軟件的光學(xué)薄膜設(shè)計技術(shù)》(原著第二版)是世界著名光學(xué)薄膜專家Macleod先生40多年豐富工作經(jīng)驗的總結(jié),結(jié)合當(dāng)前市場占有率極高的光學(xué)薄膜設(shè)計與分析軟件Essential Macleod,其內(nèi)容豐富,實(shí)用性強(qiáng)。書中不僅有成熟的光學(xué)薄膜理論基礎(chǔ)、計算公式和分析方法,還有關(guān)于光學(xué)薄膜技術(shù)討論和解決方案以及全面考慮了薄膜的設(shè)計、分析、制造等各方面問題,如第8章中40個經(jīng)典案例分析。本書共設(shè)置21章節(jié),首先,從光學(xué)薄膜的基本理論出發(fā)(第2章),為大家介紹了設(shè)計一個薄膜所必備的基礎(chǔ)知識。其次,在第3至第7章主要介紹了Macleod軟件的相關(guān)操作,以幫助大家在較短的時間快速熟悉軟件操作界面。最后,從第9章至21章開始重點(diǎn)闡述軟件中的反演工程、提取光學(xué)常數(shù)、公差分析、薄膜顏色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模塊如何與實(shí)際相結(jié)合,從而使大家將理論知識與實(shí)際經(jīng)驗結(jié)合起來,對實(shí)際鍍膜提出實(shí)用的建議,以減少設(shè)計時間并降低生產(chǎn)成本。 'C$XS>S  
    薄膜光學(xué)涵蓋范圍很廣,書中并附設(shè)計光盤和參考文獻(xiàn),有興趣者可依此深入研究,為精準(zhǔn)起見,在不影響理解的情況下,盡最大可能保留原文意思。譯者希望本書能夠?qū)氖卤∧ば袠I(yè)的人員有所幫助,通過學(xué)習(xí)之后能夠較好地完成其所承擔(dān)的光學(xué)任務(wù)。然而由于個人能力之局限,書中錯誤紕漏之處在所難免,本書若有不周之處,尚請讀者不吝賜教。 }<@j'Ok}.  
    eg<bi@C1|  
    訊技科技股份有限公司
    2015年9月3日
    Mwb/jTp  
    目錄 @J{m@ji{  
    Preface 1 AT2v!mNyCw  
    內(nèi)容簡介 2 lN,/3\B  
    目錄 i Y^Nuz/  
    1  引言 1 gK#mPcn^  
    2  光學(xué)薄膜基礎(chǔ) 2 U~{du;\  
    2.1  一般規(guī)則 2 6-`|:[Q~  
    2.2  正交入射規(guī)則 3 ')a(.f  
    2.3  斜入射規(guī)則 6 UT~a &u  
    2.4  精確計算 7 d\e7,"L*Q  
    2.5  相干性 8 f~E*Zz`;  
    2.6 參考文獻(xiàn) 10 AE: Z+rM*  
    3  Essential Macleod的快速預(yù)覽 10 T|&[7%F3"  
    4  Essential Macleod的特點(diǎn) 32 ly% F."v  
    4.1  容量和局限性 33 >+. ( r]  
    4.2  程序在哪里? 33 *5tO0_L  
    4.3  數(shù)據(jù)文件 35 yx V:!gl  
    4.4  設(shè)計規(guī)則 35 vVGDDDz/  
    4.5  材料數(shù)據(jù)庫和資料庫 37  u66XN^  
    4.5.1材料損失 38 '` 'GK&)  
    4.5.1材料數(shù)據(jù)庫和導(dǎo)入材料 39 G!4(BGx&  
    4.5.2 材料庫 41 L@=3dp!\Cu  
    4.5.3導(dǎo)出材料數(shù)據(jù) 43 A+@&"  
    4.6  常用單位 43 Zmbfq8K  
    4.7  插值和外推法 46 .ROznCe}  
    4.8  材料數(shù)據(jù)的平滑 50 B^).BQ  
    4.9 更多光學(xué)常數(shù)模型 54 T843":  
    4.10  文檔的一般編輯規(guī)則 55 ;lYHQQd!,  
    4.11 撤銷和重做 56 4k./(f2+  
    4.12  設(shè)計文檔 57 \uss Uv  
    4.10.1  公式 58 x8GJY~:SW  
    4.10.2 更多關(guān)于膜層厚度 59 UMX@7a,[3  
    4.10.3  沉積密度 59 1;<R#>&,*  
    4.10.4 平行和楔形介質(zhì) 60 :[;hu}!&  
    4.10.5  漸變折射率和散射層 60 phO;c;y}  
    4.10.4  性能 61 Ov<NsNX]  
    4.10.5  保存設(shè)計和性能 64 .k,YlFvj  
    4.10.6  默認(rèn)設(shè)計 64 g+X}c/" .  
    4.11  圖表 64 'vN