本案例為獨(dú)立接觸孔的模擬，如下所示：

在布局中文件layout.jcm中定義的幾何設(shè)置，給定的平行四邊形定義了掩模上邊長為280nm的孔洞大小。由于這種模式建模時(shí)定義為孤立的，它在橫向上被吸收掩模材料包圍。在JCMsuite中，通過定義一個(gè)圍繞幾何單元的ConvexHull，可以方便地建立這個(gè)結(jié)構(gòu)。這將自動(dòng)建立一個(gè)ConvexHull與封閉模式的最小距離偏移。對于ConvexHull其域名、優(yōu)先級和邊界條件可以像往常一樣定義。

由于掩模模式是孤立的，因此任意數(shù)量的相同頻率、不同入射方向的入射平面波都可以定義為光源。

光瞳面的西格瑪坐標(biāo)用來定義不同的入射方向。在底部顯示了傳輸磁場的一些圖。后處理傅里葉變換的定義類似于周期設(shè)置。然而，在孤立的情況下，計(jì)算了一個(gè)離散表示的連續(xù)傅里葉變換的掩模遠(yuǎn)場分布。連續(xù)傅里葉變換因此在k空間的笛卡爾網(wǎng)格上采樣。得到的仿真結(jié)果如下所示：