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`ezC# 在這篇文章中,我們簡要介紹了使用 OpticStudio 設(shè)計(jì)衍射光學(xué)元件(DOE)和超透鏡(metalens)的過程。我們討論了相位面和局部光柵的概念。附件中還提供了一些有用的DLLs,以支持特殊的 DOE 或 metalens 設(shè)計(jì)方法。(聯(lián)系我們獲取文章附件) ^Lb\k|U,\ &iWTf K7 本文討論了衍射光學(xué)元件(DOE)和超透鏡(metalens)的設(shè)計(jì)過程。主要目的是為剛接觸這個(gè)課題的設(shè)計(jì)者提供一個(gè)起點(diǎn),看看 OpticStudio 有哪些方法可使用。 ,EHLW4v H_@6!R2 對(duì)包括 DOE/metalens 在內(nèi)的系統(tǒng)進(jìn)行模擬和設(shè)計(jì)總是很棘手,沒有通用的方法來處理所有情況。設(shè)計(jì)師需要根據(jù)具體情況決定其設(shè)計(jì)策略。許多情況下設(shè)計(jì)過程中需要兩種不同的光學(xué)理論/算法來分別處理光束在自由空間和微觀結(jié)構(gòu)中的傳播[1-3],而也有一些設(shè)計(jì)單純只使用光線追跡來實(shí)現(xiàn)。[4] Ba?1q%eG M-].l3 在這篇文章中,我們首先簡要介紹了一些可能的設(shè)計(jì)思路。有關(guān)自由空間和 DOE/metalens 中的相位面和傳播方法概念的更多細(xì)節(jié)將在后面討論。在最后一節(jié),介紹了為特殊相位面設(shè)計(jì)定制的一些有用的 DLLs。 B`)sc ~u WYF8?1dt + 1. 設(shè)計(jì)思路 W5'6L=WG *~GI-h 在這一節(jié)中,我們簡要地討論了一些經(jīng)典的設(shè)計(jì)思路。 >"IG\//I 1c QF(j_ 1.1 相位 -> 微結(jié)構(gòu) -> 實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證 J>#hu3&UOQ 在這一過程中,用戶首先將 DOE/metalens 等效為其對(duì)應(yīng)的相位面來在 OpticStudio 中用光線追跡的方法進(jìn)行設(shè)計(jì)。然后根據(jù)得到的相位分布來設(shè)計(jì)微結(jié)構(gòu)。圖1顯示了該過程的流程圖。該圖不包括設(shè)計(jì)的細(xì)節(jié),例如,微結(jié)構(gòu)可以是傳統(tǒng)閃耀光柵或現(xiàn)代超透鏡。根據(jù)微結(jié)構(gòu)的類型,所需的設(shè)計(jì)和制造方法可能非常不同。 rZwSo]gp <ot`0 參考文獻(xiàn)[5]顯示了一個(gè)從給定的相位分布生成閃耀光柵的例子。它還討論了采用單點(diǎn)金剛石車削機(jī)的制造方式。圖1所示的例子可以在附件 ” phase profile example.zar “中找到。另外,參考文獻(xiàn)[3]顯示了如何使用 Lumerical FDTD 軟件為給定的相位分布設(shè)計(jì) metalens。 W*s=No3C 41=H&G& 這種方法的缺點(diǎn)是,設(shè)計(jì)者可能無法檢查整個(gè)系統(tǒng)的性能。例如,沒有辦法檢查考慮所有衍射階數(shù)的真實(shí)點(diǎn)擴(kuò)散函數(shù)(PSF)。同樣,盡管可以追蹤來自 “非工作 “階數(shù)的光線,但沒有計(jì)算出衍射效率,因此無法知道雜散光的能量占比。 +x{o '^m'r+B"
 圖1 在 OpticStudio 中設(shè)計(jì) DOE/metalens 的一種工作流程 Vaf, R\ 8[6H 1.2 相位分布 -> 微結(jié)構(gòu) -> 用 POP+FDTD 驗(yàn)證 NsYEBT7f 為了解決前一個(gè)過程的缺點(diǎn),即在制造前不能模擬整體系統(tǒng)的性能,物理光學(xué)傳播(POP)和 FDTD 可以用來精確計(jì)算 PSF。這種方法主要用于平面 metalens 設(shè)計(jì)。Zemax OpticStudio 不包括 FDTD 引擎,但是,參考文獻(xiàn)[3]顯示了一個(gè)將 Lumerical FDTD 和 Zemax OpticStudio 整合到這個(gè)過程的例子。圖2強(qiáng)調(diào)了這個(gè)過程的概念。 s@$0!8sxm :vIJ>6lIR 當(dāng)系統(tǒng)只包含一個(gè) metalens 時(shí),設(shè)計(jì)者可以首先在 Lumerical FDTD 中建模一個(gè)平面波入射到 metalens,經(jīng)過 metalens 的電場分布被導(dǎo)出為 ZBF 文件,并進(jìn)一步導(dǎo)入 OpticStudio POP 中以評(píng)估最終的 PSF。 ma-GvWD2 kjPf%*3
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