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內(nèi)容簡介 q2[+-B)m  
Macleod軟件自帶的用戶手冊功能全面，其介紹涵蓋了軟件的方方面面，能夠使用戶快速的了解和熟悉軟件的基本操作。然而，為了順應(yīng)目前薄膜行業(yè)的需求，急需一本能夠契合軟件設(shè)計和實際加工需要的專業(yè)書籍，以能夠幫助薄膜領(lǐng)域的同行高效的完成相關(guān)工作，因此，我們特別推出了《基于Essential Macleod軟件的光學(xué)薄膜設(shè)計技術(shù)》。 JJ^iy*v  
《基于Essential Macleod軟件的光學(xué)薄膜設(shè)計技術(shù)》（原著第二版）是世界著名光學(xué)薄膜專家Macleod先生40多年豐富工作經(jīng)驗的總結(jié)，結(jié)合當(dāng)前市場占有率極高的光學(xué)薄膜設(shè)計與分析軟件Essential Macleod，其內(nèi)容豐富，實用性強。書中不僅有成熟的光學(xué)薄膜理論基礎(chǔ)、計算公式和分析方法，還有關(guān)于光學(xué)薄膜技術(shù)討論和解決方案以及全面考慮了薄膜的設(shè)計、分析、制造等各方面問題，如第8章中40個經(jīng)典案例分析。本書共設(shè)置21章節(jié)，首先，從光學(xué)薄膜的基本理論出發(fā)（第2章），為大家介紹了設(shè)計一個薄膜所必備的基礎(chǔ)知識。其次，在第3至第7章主要介紹了Macleod軟件的相關(guān)操作，以幫助大家在較短的時間快速熟悉軟件操作界面。最后，從第9章至21章開始重點闡述軟件中的反演工程、提取光學(xué)常數(shù)、公差分析、薄膜顏色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模塊如何與實際相結(jié)合，從而使大家將理論知識與實際經(jīng)驗結(jié)合起來，對實際鍍膜提出實用的建議，以減少設(shè)計時間并降低生產(chǎn)成本。 Ngn\nkf  
薄膜光學(xué)涵蓋范圍很廣，書中并附設(shè)計光盤和參考文獻，有興趣者可依此深入研究，為精準(zhǔn)起見，在不影響理解的情況下，盡最大可能保留原文意思。譯者希望本書能夠?qū)�從事薄膜行業(yè)的人員有所幫助，通過學(xué)習(xí)之后能夠較好地完成其所承擔(dān)的光學(xué)任務(wù)。然而由于個人能力之局限，書中錯誤紕漏之處在所難免，本書若有不周之處，尚請讀者不吝賜教。 C<zx'lw!  
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目錄 dVasm<lZ  
Preface 1 Q,OkO?uY  
內(nèi)容簡介 2 s4MNVT  
目錄 i ju
8
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1  引言 1 sZ0g99eX  
2  光學(xué)薄膜基礎(chǔ) 2 /&~nM  
2.1  一般規(guī)則 2 B)(p9]q  
2.2  正交入射規(guī)則 3 U;x99Go:  
2.3  斜入射規(guī)則 6 p*A^0DN'Fn  
2.4  精確計算 7
$I?=.:<+  
2.5  相干性 8 k/$Ja;  
2.6 參考文獻 10 \DG( 8l  
3  Essential Macleod的快速預(yù)覽 10 :7HVBH  
4  Essential Macleod的特點 32 dL1~]Z y  
4.1  容量和局限性 33 P58\+9d_  
4.2  程序在哪里？ 33 rU/-Wq`B  
4.3  數(shù)據(jù)文件 35 [X0k{FR  
4.4  設(shè)計規(guī)則 35 3MS3O.0]/  
4.5  材料數(shù)據(jù)庫和資料庫 37 e_fg s>o`(  
4.5.1材料損失 38 'DaNR`9  
4.5.1材料數(shù)據(jù)庫和導(dǎo)入材料 39 ?7r
mwy\  
4.5.2 材料庫 41 &6|6J1c8  
4.5.3導(dǎo)出材料數(shù)據(jù) 43 |HKHN?)  
4.6  常用單位 43 fY|@{]rx  
4.7  插值和外推法 46 5^G7pI7  
4.8  材料數(shù)據(jù)的平滑 50 cP}
5}+  
4.9 更多光學(xué)常數(shù)模型 54 TMnT#ypf<5  
4.10  文檔的一般編輯規(guī)則 55 8eg2o$k_,#  
4.11 撤銷和重做 56 n?TO!5RZK  
4.12  設(shè)計文檔 57 $i1>?pb3
 
4.10.1  公式 58 ,*9#c
*'S  
4.10.2 更多關(guān)于膜層厚度 59 Yke<Wy1  
4.10.3  沉積密度 59 e8WPV  
4.10.4 平行和楔形介質(zhì) 60 aufcd57  
4.10.5  漸變折射率和散射層 60 g7E`;&f  
4.10.4  性能 61 g4BwKENM  
4.10.5  保存設(shè)計和性能 64 7LyV`6{70  
4.10.6  默認(rèn)設(shè)計 64 *g/I&'^  
4.11  圖表 64 pn ~/!y  
4.11.1  合并曲線圖 67 BP7<^`i&  
4.11.2  自適應(yīng)繪制 68 [A.eVuV;+  
4.11.3  動態(tài)繪圖 68 baO&n  
4.11.4  3D繪圖 69 H
nH2u;  
4.12  導(dǎo)入和導(dǎo)出 73 M8^ziZY  
4.12.1  剪貼板 73 @E&X&F%  
4.12.2  不通過剪貼板導(dǎo)入 76 8yJk81 gY  
4.12.3  不通過剪貼板導(dǎo)出 76 3RTB~K8:{  
4.13  背景 77 UC?2mdLt^  
4.14  擴展公式-生成設(shè)計(Generate Design) 80 93zlfLS0  
4.15  生成Rugate 84 |zr)hC  
4.16  參考文獻 91 {4V:[*
3  
5  在Essential Macleod中建立一個Job 92 9v5.4a}  
5.1  Jobs 92 {kY`X[fvZ  
5.2  創(chuàng)建一個新Job（工作） 93 dxae2 tV  
5.3  輸入材料 94 9e :d2  
5.4  設(shè)計數(shù)據(jù)文件夾 95 ;1(qGy4  
5.5  默認(rèn)設(shè)計 95 `"bRjC"f]  
6  細化和合成 97 !Cv<>_N).  
6.1  優(yōu)化介紹 97 Nt,]00S\w  
6.2  細化 (Refinement) 98 /M{)k_V  
6.3  合成 (Synthesis) 100 xr1I8 5kM  
6.4  目標(biāo)和評價函數(shù) 101 37za^n?SG  
6.4.1  目標(biāo)輸入 102 n=#[Mi $Y  
6.4.2  目標(biāo) 103 st1M.}  
6.4.3  特殊的評價函數(shù) 104 ":ws~
Zep  
6.5  層鎖定和連接 104 :jN;l  
6.6  細化技術(shù) 104 M\$<g  
6.6.1  單純形 105 B=nx8s  
6.6.1.1 單純形參數(shù) 106 })yb   
6.6.2  最佳參數(shù)(Optimac) 107 aV92.Z_Ku  
6.6.2.1 Optimac參數(shù) 108 @%5F^Vbd  
6.6.3  模擬退火算法 109 Hf E;$  
6.6.3.1　模擬退火參數(shù) 109 _oyL*Cb  
6.6.4  共軛梯度 111 }~0{1&  
6.6.4.1 共軛梯度參數(shù) 111 (vYf?+Kb  
6.6.5  擬牛頓法 112 "p_[A  
6.6.5.1 擬牛頓參數(shù)： 112 E