近日，據(jù)國家知識產(chǎn)權(quán)局公告，合肥晶合集成電路股份有限公司申請一項名為“光學(xué)鄰近修正方法及系統(tǒng)”，公開號CN117111400A，申請日期為2023年10月。 eA+6-'qN  
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專利摘要顯示，本申請涉及一種光學(xué)鄰近修正方法及系統(tǒng)，方法包括：獲取初始版圖圖形，其包括至少一個目標(biāo)邊，并在目標(biāo)邊沿第一方向遠離初始版圖圖形的一側(cè)添加散射條；其中，第一方向與目標(biāo)邊的延伸方向垂直，散射條的延伸方向與目標(biāo)邊的延伸方向相同；通過設(shè)計規(guī)則檢查語法檢測與初始版圖圖形鄰接且共用目標(biāo)邊的目標(biāo)區(qū)域內(nèi)是否具有與目標(biāo)邊對應(yīng)的散射條；若否，則檢測目標(biāo)區(qū)域內(nèi)是否具有除了與目標(biāo)邊對應(yīng)的散射條之外的散射條；若否，則檢測離目標(biāo)區(qū)域最近的散射條與目標(biāo)區(qū)域的最小距離是否達到預(yù)設(shè)沖突距離；若位于預(yù)設(shè)沖突距離之內(nèi)，則判定散射條的添加無遺漏；反之，則判定有遺漏。上述方法能夠提高檢測的準(zhǔn)確度及光學(xué)鄰近修正的效率。