據(jù)國家知識產(chǎn)權(quán)局公告，清華大學(xué)取得一項名為“遠場超分辨光學(xué)系統(tǒng)、激光制造系統(tǒng)及成像分析系統(tǒng)”，授權(quán)公告號CN116893525B，申請日期為2023年9月。 I"@5=m5  
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專利摘要顯示，本發(fā)明涉及光學(xué)系統(tǒng)技術(shù)領(lǐng)域，提供一種遠場超分辨光學(xué)系統(tǒng)、激光制造系統(tǒng)及成像分析系統(tǒng)。遠場超分辨光學(xué)系統(tǒng)，包括：激光發(fā)射裝置，所述激光發(fā)射裝置用于發(fā)射激光光束；第一光束調(diào)制模塊，所述第一光束調(diào)制模塊用于將激光光束調(diào)制為環(huán)形能量分布光束；第二光束調(diào)制模塊，所述第二光束調(diào)制模塊用于將所述環(huán)形能量分布光束調(diào)制為可實現(xiàn)環(huán)形聚焦的錐形波前相位分布光束；所述激光發(fā)射裝置、所述第一光束調(diào)制模塊和所述第二光束調(diào)制模塊依次同軸設(shè)置。本發(fā)明提供的遠場超分辨光學(xué)系統(tǒng)，在能夠?qū)崿F(xiàn)納米級特征形貌分辨率的聚焦光場基礎(chǔ)上，實現(xiàn)厘米級的遠場工作距離，大幅提升光學(xué)系統(tǒng)的遠場光學(xué)分辨率以及相關(guān)納米級光學(xué)制造的制造效率和制造精度。