摘要
/M2in]oH 8Ths"zwn VirtualLab可以用于分析任意類型的
光柵。由于在復(fù)雜
光學(xué)設(shè)置中傾斜
結(jié)構(gòu)的光柵越來(lái)越重要，所以
軟件中也加入了傾斜光柵的
模型。傾斜光柵建模為特殊的光學(xué)介質(zhì)，可以多樣化地定義其幾何形狀。此外，幾種高級(jí)規(guī)范選項(xiàng)也可以在軟件中實(shí)現(xiàn)，例如添加完整和部分涂層。這個(gè)用例解釋了可用的配置選項(xiàng)，并討論了它們對(duì)光柵幾何形狀的影響。
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!Rv ;~f/2 Gk:fw#R 介質(zhì)目錄中的傾斜光柵介質(zhì)
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IyO 0~Vx> vj?{={Y 可以在VirtualLab內(nèi)嵌的介質(zhì)目錄中找到內(nèi)置傾斜光柵介質(zhì)。
<'\Nv._2a 可以使用它設(shè)置復(fù)雜的光學(xué)光柵結(jié)構(gòu)（所謂的堆棧）并運(yùn)用傅里葉模態(tài)法分析。
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H:Un{, 傾斜光柵介質(zhì)的編輯對(duì)話框
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{K|?i9 K @GQe-04W` 傾斜光柵介質(zhì)提供了很多選項(xiàng)去自定義周期性結(jié)構(gòu)。
DAw1S$dM 首先，需要在基本
參數(shù)標(biāo)簽頁(yè)中定義光柵脊和谷的
材料。
2s }S 9 這些材料既可從材料目錄中選取，也可通過(guò)
折射率定義。
+^7cS6"L Dl>tF?= 傾斜光柵介質(zhì)的編輯對(duì)話框
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k+_>`Gre} vP{i+s18B 在材料設(shè)置下方，可以定義光柵的幾何參數(shù)。
6mcb'hy 有如下參數(shù)可選：
u7e$Mq ─ 占空比（相對(duì)于光柵的上面或者下面）
c]pz& ─ Z方向擴(kuò)展（在z方向光柵的高度）
9B~&d (Bm ─ 左傾斜角（光柵脊左側(cè)的傾斜
角度）
2 $JZ(qnN ─ 右傾斜角（光柵脊右側(cè)的傾斜角度）
67EGkW?hbt 如果傾斜角度相同，可以通過(guò)點(diǎn)擊（不）等號(hào)關(guān)聯(lián)角度設(shè)定。
[Qs `@u<% {C w.?JU 傾斜光柵介質(zhì)的編輯對(duì)話框
S257+ K9 9~V'Wev 為了增加可配置的涂層，需要激活A(yù)pply Coating選項(xiàng)。
-mJs0E*g 這樣，結(jié)構(gòu)示意圖中就出現(xiàn)了附加選項(xiàng)。
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I[E 6 N2 )?{<Tt@ 傾斜光柵介質(zhì)的編輯對(duì)話框
%lj5Olj ..yV=idI 首先，選擇涂層的材料。
<0';2y P" 同樣的，可以從材料目錄中選擇或通過(guò)折射率定義材料。
IJf%OA>v 然后，可以單獨(dú)設(shè)置涂層每個(gè)側(cè)面、上面、下面的厚度，如示意圖所示。
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rl.K{Uad fTEZ@ #p 傾斜光柵介質(zhì)的編輯對(duì)話框
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bZ`#;D< 因?yàn)閮A斜光柵是通過(guò)介質(zhì)定義的，需要在周期化標(biāo)簽頁(yè)中設(shè)置周期。
r(^00hvH 因?yàn)檫@種特殊的介質(zhì)是為了光柵而設(shè)計(jì)的，所以它總是設(shè)定為周期化的。
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"'5(UiSFz 8i;1JA 對(duì)堆棧用法的注釋
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(m3"Xu6O 對(duì)于在光學(xué)堆棧中介質(zhì)的使用，需要定義兩個(gè)表面作為介質(zhì)的分界面。
g:uVl;> 一般的，這兩種界面的距離需要手動(dòng)設(shè)置。
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