為什么要在高真空條下鍍膜？ > y m,{EHK
答案 0I-9nuw,^;
1、真空狀態(tài)下，膜料的熔點(diǎn)溫度和蒸發(fā)溫度要比在大氣狀態(tài)下低得多。對(duì)高熔點(diǎn)的氧化物膜料，在真空狀態(tài)下其熔點(diǎn)要低得多。也就容易到蒸發(fā)溫度而不需太高的能量。 b"<liGh"n-
2、真空狀態(tài)下，真空室中空氣極少，膜料分子從蒸發(fā)源到達(dá)基片表面的路程中幾乎不與殘留在真空室中的氣體分子碰撞，即分子自由程長。膜料容易沉積在基片上。 TM__I\+Q
3、由于真空室中氣體分子少，因而氧分子、硫分子等化學(xué)活潑分子也少，高溫狀態(tài)的膜料分子就不會(huì)與之發(fā)生化學(xué)變化，從而保證膜層的膜料純度。 IEL%!RFG
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在鍍膜之前為什么要預(yù)熔材料？ 4B8 oO
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在鍍膜之前要把材料預(yù)熔透徹，主要是為了材料進(jìn)行放氣，消除材料中其它成份，保持鍍膜不產(chǎn)生飛濺和保持真空度穩(wěn)定。 +[6G5cH
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鍍膜過程中產(chǎn)生雜質(zhì)的原因和對(duì)策？ B {n,t}z
答案 1SQ3-WU s
1.電子槍周圍沒有打掃干凈用吸塵器、百潔布等清冼電子槍部件 =g7x'
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2、坩鍋沒有清冼干凈坩鍋邊緣用百潔布、酒精、紗布清冼干凈 W]$w@.oW[
3、鍍膜時(shí)電子槍光斑不在中間而打到邊緣鍍膜時(shí)必須把電子槍光斑打到中間而不能打偏 o)M}!MT
4、預(yù)熔材料不透徹把膜料充分地預(yù)熔透徹 ]\-A;}\e
5、預(yù)熔膜料電流加得太快加電流要緩慢，不要加的太快 W 8<&gh+
6、電子槍檔板不干凈每罩要更換電子槍檔板，以及電子槍檔板要清冼干凈 { T/[cu<
7、膜料污染避免膜料相互污染，以及保存方法 OR P\b
8、膜料本身不純更換其它品種膜料。
