1. 摘要
?I;PJj |eP5iy wg 隨著
光學(xué)投影系統(tǒng)和
激光材料加工單元等現(xiàn)代技術(shù)的發(fā)展,對(duì)光學(xué)
器件的專業(yè)化要求越來(lái)越高。
透鏡陣列',this.id)" style="cursor:pointer;border-bottom: 1px solid #FA891B;" id="rlt_1">微透鏡
陣列正是這些領(lǐng)域中一種常用元件。為了充分了解這些元件的光學(xué)特性,有必要對(duì)微透鏡陣列后各個(gè)位置的光傳播進(jìn)行
模擬。在這個(gè)應(yīng)用案例中,我們將分別研究元件后近場(chǎng)、焦區(qū)以及遠(yuǎn)場(chǎng)特性。
}hS$F &L r~x#Wx %8?XOkH) q)OCY}QA 2. 系統(tǒng)配置
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{|is2M9' 3. 系統(tǒng)建模模塊-組件
n {..Q,z [rReBgV ?7A>|p?" aA'of>'ib| 4. 總結(jié)—組件……
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