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元件內(nèi)部場分析器：FMM允許用戶可視化和研究微結(jié)構(gòu)和納米結(jié)構(gòu)內(nèi)部的電磁場分布。為此，使用傅立葉模態(tài)法/嚴(yán)格耦合波分析（FMM/RCWA）計(jì)算周期性結(jié)構(gòu)（透射或反射、電介質(zhì)或金屬）內(nèi)部的場。還可以指定場的哪一部分應(yīng)該可視化：正向模式、反向模式或兩者同時(shí)顯示。 g<$. - g  
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元件內(nèi)部場分析儀：FMM zOB !(R  
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元件內(nèi)部場分析器：FMM是光柵光學(xué)裝置的獨(dú)有功能，可提供光柵結(jié)構(gòu)內(nèi)部電磁場的可視化。 Yt+h2ft!  
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評估模式的選擇 EUy(T1Cl&&  
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為了更容易地區(qū)分入射場、反射場和透射場，可以僅評估正向或反向傳播模式，或者評估兩者的總和。 "(,2L,Zh  
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評價(jià)區(qū)域的選擇 gfde#T)S  
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元件內(nèi)部場分析器：FMM可以輸出整個(gè)元件（包括基板）內(nèi)部的場，或者只輸出一個(gè)堆�；蚧鶋K（基板）中的場。 %X>FVlPm  
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不同光柵結(jié)構(gòu)的場分布 r<c #nD~K  
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任意形狀的光柵結(jié)構(gòu)可以通過元件內(nèi)部場分析儀進(jìn)行分析。以下是幾個(gè)例子： '^iUx,,ZQ  
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光柵結(jié)構(gòu)的采樣 E1 |<Pt  
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雖然分析儀為輸出數(shù)據(jù)提供了一些采樣選項(xiàng)，但系統(tǒng)中定義的光柵表面必須正確采樣（例如，分解點(diǎn)和過渡點(diǎn)的層數(shù)足夠）。 qsI^oBD"  
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分解預(yù)覽展示了如何根據(jù)當(dāng)前采樣因子對光柵結(jié)構(gòu)進(jìn)行采樣。 T#EFXHPr  
r\2vl8X~  
光柵結(jié)構(gòu)的充分采樣意味著已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了收斂，即進(jìn)一步增加采樣不會顯著影響產(chǎn)生的場。例如，如果層分解過于粗糙，則可能會由于縱斷面中的大臺階而產(chǎn)生其他影響。 "uKFOV?j&  
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輸出數(shù)據(jù)的采樣：一維周期光柵（Lamellar） PLA#!$c7q  
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