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    [技術]TRCX：摻雜過程分析 [復制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 01-04
    在 LTPS 制造過程中，使用自對準掩模通過離子注入來金屬化有源層。當通過 TRCX 計算電容時，應用與實際工藝相同的原理。工程師可以根據(jù)真實的 3D 結(jié)構提取準確的電容，并分析有源層離子注入前后的電位分布，如下圖所示。 ZdW+=;/#  
    (a)FIB .O- )m'5  
    rc=E%Qv%?  
    (b) 摻雜前后對比
     
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