1. 摘要 W?N+7_%'  
V'za
,.d-  
隨著光學(xué)投影系統(tǒng)和激光材料加工單元等現(xiàn)代技術(shù)的發(fā)展，對(duì)光學(xué)器件的專業(yè)化要求越來(lái)越高。透鏡陣列',this.id)" style="cursor:pointer;border-bottom: 1px solid #FA891B;" id="rlt_1">微透鏡陣列正是這些領(lǐng)域中一種常用元件。為了充分了解這些元件的光學(xué)特性，有必要對(duì)微透鏡陣列后各個(gè)位置的光傳播進(jìn)行模擬。在這個(gè)應(yīng)用案例中，我們將分別研究元件后近場(chǎng)、焦區(qū)以及遠(yuǎn)場(chǎng)特性。 W<O/LHKHdn  
Gw6Odj  

圖片:1-22010519252X54.png

^[+2P?^K  
%k"hzjXAw  
2. 系統(tǒng)配置 KB~`3Wj|Z  
< uV@/fn<  

圖片:1-22010519255B18.png

TgLr4Ex  
1j}e2H  
3. 系統(tǒng)建模模塊-組件  YOfYa  
E+ XR[p  

圖片:1-220105192ANC.png

!6#.%"{-  
9Ns%<FRO@  
4. 總結(jié)—組件…… zT!.5qd  
?}uvpB1}  

圖片:1-220105192IY11.png

,Cy&tRjR B  
g
<w1d{Td  
仿真結(jié)果 Mx3f