1. 摘要 &PRu[!  
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隨著光學(xué)投影系統(tǒng)和激光材料加工單元等現(xiàn)代技術(shù)的發(fā)展，對光學(xué)器件的專業(yè)化要求越來越高。透鏡陣列',this.id)" style="cursor:pointer;border-bottom: 1px solid #FA891B;" id="rlt_1">微透鏡陣列正是這些領(lǐng)域中一種常用元件。為了充分了解這些元件的光學(xué)特性，有必要對微透鏡陣列后各個位置的光傳播進(jìn)行模擬。在這個應(yīng)用案例中，我們將分別研究元件后近場、焦區(qū)以及遠(yuǎn)場特性。 [ Fid  
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2. 系統(tǒng)配置 Hd(|fc{2  
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3. 系統(tǒng)建模模塊-組件 eJ0PSW/4l  
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4. 總結(jié)—組件…… Z2d,J>-  
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仿真結(jié)果 @C40H/dE  
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1. 場追跡結(jié)果—近場 ,]e!OZ[$m  
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2. 場追跡結(jié)果—焦平面 3{o5AsVv  
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3. 場追跡結(jié)果—遠(yuǎn)場 l%h0x*?$  
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