線下培訓(xùn) | 第32屆《ASAP光學(xué)系統(tǒng)雜散光分析與控制》招生中武漢墨光長久以來成功召開多期《 ASAP 光學(xué)系統(tǒng)雜散光分析與控制》線上線下培訓(xùn)。武漢墨光將于2024年3月18日-22日開展第32屆《 ASAP 光學(xué)系統(tǒng)雜散光分析與控制》線下培訓(xùn)班。本次培訓(xùn)共計5天時間,課程涉及【理論知識+案例實操】兩個模塊的學(xué)習(xí),講師現(xiàn)場互動答疑,旨在讓所有學(xué)員能夠熟練掌握 ASAP 高級光學(xué)系統(tǒng)分析軟件。以下是本次培訓(xùn)的課程詳情:
課程大綱
第一天 光學(xué)和光線追跡的入門概念; ASAP 簡介; ASAP 新版本功能; 程序檢查和3D 查看器; ASAP 數(shù)據(jù)輸入; 單透鏡輻射計示例; ASAP 數(shù)據(jù)庫概念; 實體和物體; 追跡數(shù)據(jù); 照明系統(tǒng)示例; 基本腳本操作; 幾何規(guī)范和通用幾何設(shè)置; 光學(xué)特性; 光源設(shè)置; 光線追跡概念; 系統(tǒng)分析與評價。 第二天 腳本和 ASAP 編輯器; 幾何可視化與驗證; 顯示模式; 輻射強(qiáng)度分布; 光源切趾; 光線分裂和接收屬性; ASAP 宏語言; ASAP 優(yōu)化功能; 散射模型和重點(diǎn)采樣; 光線路徑。 第三天 散射雜散光: 雜散光術(shù)語 輻射度學(xué)基礎(chǔ) 雜散光的成因和影響 雜散光分析和評價方法 ASAP雜散光分析流程、步驟 關(guān)鍵和照明表面 重點(diǎn)采樣位置和大小計算 雜散光PST計算 光學(xué)表面粗糙、污染和微粒 表面黑化處理 第四天 鬼像: 鬼像的來源 ASAP膜層 ZEMAX導(dǎo)入的鬼像分析 鬼像路徑分析案例 鬼像的控制 衍射和紅外雜散光: 孔徑衍射和邊緣衍射 衍射光學(xué)元件的雜散光 紅外系統(tǒng)雜散光特征 紅外熱輻射 自發(fā)輻射雜散光 紅外冷反射 第五天 雜散光工程: 雜散光的控制方法 擋板和葉片的設(shè)計 散射測量 雜散光的評價方法 雜散光工程流程 總結(jié)和答疑 培訓(xùn)說明
培訓(xùn)詳情
舉辦單位: 武漢墨光科技有限公司 培訓(xùn)時間: 2024年3月18日-3月22日 共五天(09:00-17:00) 培訓(xùn)地點(diǎn): 湖北 ‧ 武漢 培訓(xùn)費(fèi)用: 按7200/人的標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行收費(fèi) 1.提供服務(wù)性發(fā)票,項目“培訓(xùn)費(fèi)”; 2.團(tuán)體(三人及以上)報名可以享受八折優(yōu)惠,不與墨光其他優(yōu)惠同時使用; 3.食宿自理。 報名方式 報名咨詢可前往武漢墨光官網(wǎng)(掃描下方官網(wǎng)二維碼)留言或直接掃碼與我們的工作人員溝通聯(lián)系。 武漢墨光官網(wǎng)
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(注:如報名人數(shù)未達(dá)到最低開課人數(shù),武漢墨光將酌情調(diào)整或延期開設(shè)本門課程。) |