據(jù)國家知識產(chǎn)權局公告，華為技術有限公司取得一項名為“光學裝置及頭顯設備”，授權公告號CN220357330U，申請日期為2023年7月。

專利摘要顯示，本申請涉及光學領域，公開了一種光學裝置及頭顯設備。光學裝置包括第一超表面層、第二超表面層和第一襯底。第一襯底包括沿第一方向相背的第一側和第二側；第一超表面層在第一側，包括多個按第一周期排列的第一超表面單元，沿第一方向，每個第一超表面單元在投影面的投影為第一投影區(qū)域，投影面垂直第一方向；第二超表面層在第二側，包括多個按第一周期排列的第二超表面單元，沿第一方向，每個第二超表面單元在投影面的投影為第二投影區(qū)域；沿第一方向，第一超表面單元與第二超表面單元尺寸不同，第一投影區(qū)域和第二投影區(qū)域的大小形狀相同，且不重合，第一投影區(qū)域和第二投影區(qū)域的距離為0～λ/6，λ為光學裝置工作波長。該光學裝置的光學效率佳。

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