摘要 4m\([EO  
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掠入射反射光學(xué)元件在X射線光路中廣泛使用，特別是Kirkpatrick-Baez（KB）橢圓反射鏡系統(tǒng)。（A. Verhoeven, et al., Journal of Synchrotron Radiation 27.5 (2020): 1307-1319）聚焦是通過使用兩個(gè)物理分離的橢圓反射鏡聚焦二維光束來實(shí)現(xiàn)的。進(jìn)入系統(tǒng)的X射線可以通過系統(tǒng)聚焦到納米尺度大小的光斑。該系統(tǒng)在VirtualLab Fusion中進(jìn)行了建模和仿真，并計(jì)算了焦點(diǎn)位置的電場。 }Aw47;5q;  
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建模任務(wù) 0R4akLW0  
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分析設(shè)計(jì)橢圓反射鏡（1） z{/LX \  
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分析設(shè)計(jì)橢圓反射鏡（2） -%i#j>  
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分析設(shè)計(jì)橢圓反射鏡（3） &+]x;K  
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焦平面上的能量密度和電場 DyIV/  
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