據(jù)國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局公告，三星電子株式會(huì)社取得一項(xiàng)名為“集成電路器件”的專利，授權(quán)公告號(hào)CN110890363B，申請(qǐng)日期為2019年6月。

專利摘要顯示，一種集成電路(IC)器件可以包括：鰭型有源區(qū)，從襯底突出并沿第一水平方向延伸；第一納米片，設(shè)置在鰭型有源區(qū)的上表面之上，其間具有第一分離空間；第二納米片，設(shè)置在第一納米片之上，其間具有第二分離空間；柵極線，在與第一水平方向交叉的第二水平方向上在襯底上延伸，柵極線的至少一部分設(shè)置在第二分離空間中；和底部絕緣結(jié)構(gòu)，設(shè)置在第一分離空間中。