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福晶科技“一種表面超高損傷閾值的拋光加工裝置及方法”專利公布

發(fā)布:cyqdesign 2024-03-02 13:43 閱讀:305

據(jù)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局公告,福建福晶科技股份有限公司取得一項(xiàng)名為“一種表面超高損傷閾值拋光加工裝置及方法”,授權(quán)公告號(hào)CN114789378B,申請(qǐng)日期為2022年5月。

專利摘要顯示,一種表面超高損傷閾值的拋光加工裝置及方法,該方法在于,將玻璃工件粘結(jié)在粘結(jié)盤上,選用納米級(jí)磁流變拋光液作為磨料懸浮液,以一定的壓力注入拋光容器主體中,在玻璃工件與微孔結(jié)構(gòu)拋光模之間存在液膜,驅(qū)動(dòng)粘結(jié)盤使得懸浮在納米級(jí)磁流變拋光液的玻璃工件以一定速率進(jìn)行旋轉(zhuǎn),同時(shí),利用垂直方向的磁場(chǎng)驅(qū)動(dòng)拋光液進(jìn)行緩慢蠕動(dòng),使得玻璃工件在長(zhǎng)時(shí)間內(nèi)進(jìn)行切向蠕動(dòng)摩擦以進(jìn)行拋光。本發(fā)明將機(jī)械拋光與磁流變拋光相互結(jié)合,經(jīng)過(guò)長(zhǎng)時(shí)間的切向蠕動(dòng)摩擦拋光,達(dá)到去除光學(xué)亞表面損傷的目的,拋光模采用微孔結(jié)構(gòu)的聚氨酯或者絨布,并進(jìn)一步在拋光模的表面沿著磁場(chǎng)方向開(kāi)橫線陣列槽,方便拋光液在磁場(chǎng)的作用下,沿磁場(chǎng)方向定向運(yùn)動(dòng)。

關(guān)鍵詞: 拋光閾值
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