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蘋果公司“光學(xué)測量系統(tǒng)中的去斑”專利公布

發(fā)布:cyqdesign 2024-03-26 16:51 閱讀:217

據(jù)國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局公告,蘋果公司申請(qǐng)一項(xiàng)名為“光學(xué)測量系統(tǒng)中的去斑”,公開號(hào)CN117760960A,申請(qǐng)日期為2023年9月。

專利摘要顯示,本公開涉及光學(xué)測量系統(tǒng)中的去斑。實(shí)施方案涉及在測量期間利用多個(gè)發(fā)射器來發(fā)射光的光學(xué)測量系統(tǒng),以及使用這些光學(xué)測量系統(tǒng)來執(zhí)行測量的方法。該光學(xué)測量系統(tǒng)可包括:光產(chǎn)生組件,該光產(chǎn)生組件被配置為經(jīng)由光源單元產(chǎn)生光;以及光子集成電路,該光子集成電路包括發(fā)射組,該發(fā)射組具有多個(gè)發(fā)射器。這些發(fā)射器中的每個(gè)發(fā)射器光學(xué)地耦接到該光產(chǎn)生組件以接收從該光產(chǎn)生組件產(chǎn)生的光,并且可從該光子集成電路的表面發(fā)射該光。該光學(xué)測量系統(tǒng)可執(zhí)行測量,其中該光產(chǎn)生組件產(chǎn)生光并且該多個(gè)發(fā)射器中的每個(gè)發(fā)射器同時(shí)地發(fā)射從該光產(chǎn)生組件接收的光。

關(guān)鍵詞: 光學(xué)測量
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