|
|
摘要 (- `h8M
b^[Ab:`}[V
 (jbHV.]P9 u;f${Wn'3 干涉測(cè)量法是一項(xiàng)用于光學(xué)測(cè)量的重要技術(shù)。它被廣泛應(yīng)用于表面輪廓、缺陷、機(jī)械和熱變形的高精度測(cè)量。作為一個(gè)典型示例，在非序列場(chǎng)追跡技術(shù)的幫助下，于 VirtualLab Fusion中建立了具有相干激光源的馬赫-澤德干涉儀。該例證明了光學(xué)元件的傾斜和位移對(duì)干涉條紋圖的影響。 ?. t naE
e 4- 建模任務(wù) tHAr9
Bw
_^"e8X
 l"70|~ $+CKy> 由于組件傾斜引起的干涉條紋 ~d] X@(G&
{cmY`to
 UnSi=
|
