摘要
" Lh&s<[ <5?pa3 高數(shù)值
孔徑的
物鏡廣泛用于光刻、顯微等方面。 因此,在
仿真聚焦時(shí)考慮光的矢量性質(zhì)是至關(guān)重要的。
VirtualLab可以支持此類
透鏡的
光線和場(chǎng)追跡分析。通過(guò)場(chǎng)追跡分析,可以清楚地顯示出由于矢量效應(yīng)引起的非對(duì)稱焦點(diǎn)。
相機(jī)探測(cè)器和電磁場(chǎng)探測(cè)器可以方便地研究聚焦區(qū)域的場(chǎng),也可以深入研究矢量效應(yīng)。
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