高NA(數(shù)值
孔徑)
物鏡常用于
光學(xué)顯微及光刻，并已廣泛在其他應(yīng)用中得以使用。眾所周知，在高數(shù)值孔徑物鏡的使用中，電磁場矢量特性的影響是不可忽略的。一個(gè)眾所周知的例子就是由高NA(數(shù)值孔徑)物鏡聚焦線性偏振圓
光束時(shí)，焦斑的不對(duì)稱性:焦斑不再是圓的，而是拉長的。我們通過具體的物鏡
實(shí)例來說明了這些效應(yīng)，并演示了如何在VirtualLab Fusion中使用不同的
探測(cè)器分析焦斑。
re `B fN 6tBh`nYB= 高數(shù)值孔徑物鏡的聚焦分析
UUF;Q0X 高數(shù)值孔徑(NA)物鏡廣泛用于光學(xué)光刻、顯微
系統(tǒng)等。在對(duì)焦斑的
模擬中考慮光的矢量性質(zhì)是非常重要的。
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