具有直壁或傾斜側(cè)壁的二元
光柵已成為許多
光學(xué)應(yīng)用中的關(guān)鍵部件。 感謝
納米壓印技術(shù),使小尺寸的光柵的制造已經(jīng)變得可行。
VirtualLab Fusion采用內(nèi)置的傅里葉模態(tài)方法(FMM,也稱為RCWA)和不同的
優(yōu)化算法,為二元光柵提供了完整的用戶友好的設(shè)計(jì)工作流程,和隨后的制造誤差分析,如圓邊效應(yīng)。
_P:}]5-| 5?yc*mOZ 高效偏振無(wú)關(guān)透射光柵的分析與設(shè)計(jì) 'A#bBn,| v?)u1-V0 6z-&Zu7@ 我們演示了如何嚴(yán)格分析二元光柵的偏振相關(guān)特性; 以及如何優(yōu)化二元
結(jié)構(gòu)以獲得高偏振無(wú)關(guān)的
衍射效率。
kzb%=EI < 9 vS 傾斜光柵的參數(shù)優(yōu)化與公差分析 }23#z ~R$Ko(N 4b}94e@(N 利用傅立葉模態(tài)法(FMM)優(yōu)化傾斜光柵,以實(shí)現(xiàn)將光耦合到波導(dǎo)中的高衍射效率。 分析制造公差,如圓形邊緣。