A<y]D.Z" YB1Jv[ 內(nèi)容簡(jiǎn)介 9~J#> C0} Macleod軟件自帶的用戶(hù)手冊(cè)功能全面,其介紹涵蓋了
軟件的方方面面,能夠使用戶(hù)快速的了解和熟悉軟件的基本操作。然而,為了順應(yīng)目前
薄膜行業(yè)的需求,急需一本能夠契合軟件設(shè)計(jì)和實(shí)際加工需要的專(zhuān)業(yè)書(shū)籍,以能夠幫助薄膜領(lǐng)域的同行高效的完成相關(guān)工作,因此,我們特別推出了《基于Essential Macleod軟件的
光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)技術(shù)》。
m}(M{^\| 《基于Essential Macleod軟件的光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)技術(shù)》(原著第二版)是世界著名光學(xué)薄膜專(zhuān)家Macleod先生40多年豐富工作經(jīng)驗(yàn)的總結(jié),結(jié)合當(dāng)前市場(chǎng)占有率極高的光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)與分析軟件Essential Macleod,其內(nèi)容豐富,實(shí)用性強(qiáng)。書(shū)中不僅有成熟的光學(xué)薄膜理論基礎(chǔ)、計(jì)算公式和分析方法,還有關(guān)于光學(xué)薄膜技術(shù)討論和解決方案以及全面考慮了薄膜的設(shè)計(jì)、分析、制造等各方面問(wèn)題,如第8章中40個(gè)經(jīng)典案例分析。本書(shū)共設(shè)置21章節(jié),首先,從光學(xué)薄膜的基本理論出發(fā)(第2章),為大家介紹了設(shè)計(jì)一個(gè)薄膜所必備的基礎(chǔ)知識(shí)。其次,在第3至第7章主要介紹了Macleod軟件的相關(guān)操作,以幫助大家在較短的時(shí)間快速熟悉軟件操作界面。最后,從第9章至21章開(kāi)始重點(diǎn)闡述軟件中的反演工程、提取光學(xué)常數(shù)、公差分析、薄膜顏色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模塊如何與實(shí)際相結(jié)合,從而使大家將理論知識(shí)與實(shí)際經(jīng)驗(yàn)結(jié)合起來(lái),對(duì)實(shí)際鍍膜提出實(shí)用的建議,以減少設(shè)計(jì)時(shí)間并降低生產(chǎn)成本。
+bGO"* 薄膜光學(xué)涵蓋范圍很廣,書(shū)中并附設(shè)計(jì)光盤(pán)和參考文獻(xiàn),有興趣者可依此深入研究,為精準(zhǔn)起見(jiàn),在不影響理解的情況下,盡最大可能保留原文意思。譯者希望本書(shū)能夠?qū)氖卤∧ば袠I(yè)的人員有所幫助,通過(guò)學(xué)習(xí)之后能夠較好地完成其所承擔(dān)的光學(xué)任務(wù)。然而由于個(gè)人能力之局限,書(shū)中錯(cuò)誤紕漏之處在所難免,本書(shū)若有不周之處,尚請(qǐng)讀者不吝賜教。
&`IJ55Z-) 訊技科技股份有限公司
2015年9月3日
&u!MI #p<(2wN 目錄 >a;LBQ0 Preface 1
t)5.m} 內(nèi)容簡(jiǎn)介 2
j+PLtE 目錄 i
C]Q`!e 1 引言 1
DYF(O-hJK 2 光學(xué)薄膜基礎(chǔ) 2
OFxCV`>ce 2.1 一般規(guī)則 2
Pm]lr|Q{I 2.2 正交入射規(guī)則 3
;@*<M\O 2.3 斜入射規(guī)則 6
?
q_% 2.4 精確計(jì)算 7
+NJIi@ 2.5 相干性 8
V aoqI 2.6 參考文獻(xiàn) 10
Zu*7t<W 3 Essential Macleod的快速預(yù)覽 10
]XASim:A 4 Essential Macleod的特點(diǎn) 32
R7 rO7M! 4.1 容量和局限性 33
KF6N P 4.2 程序在哪里? 33
xn>N/+, 4.3 數(shù)據(jù)文件 35
Mh2Zj 4.4 設(shè)計(jì)規(guī)則 35
A34O(fE 4.5 材料數(shù)據(jù)庫(kù)和
資料庫(kù) 37
5,pEJ>dDD3 4.5.1材料損失 38
1En:QQ4/ 4.5.1材料數(shù)據(jù)庫(kù)和導(dǎo)入材料 39
:NL[NbQYt 4.5.2 材料庫(kù) 41
0 ;].q*|# 4.5.3導(dǎo)出材料數(shù)據(jù) 43
:Q,~Nw> 4.6 常用單位 43
au]W*;x 4.7 插值和外推法 46
azzG 4.8 材料數(shù)據(jù)的平滑 50
ma xpR>7`j 4.9 更多光學(xué)常數(shù)模型 54
5IA3\G}+ 4.10 文檔的一般編輯規(guī)則 55
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