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摘要 2nIw7>.}f t9:0TBt-[
r|PB*` oVe|Mss6 干涉測(cè)量法是一項(xiàng)用于光學(xué)測(cè)量的重要技術(shù)。它被廣泛應(yīng)用于表面輪廓、缺陷、機(jī)械和熱變形的高精度測(cè)量。作為一個(gè)典型示例,在非序列場(chǎng)追跡技術(shù)的幫助下,于 VirtualLab Fusion中建立了具有相干激光源的馬赫-澤德干涉儀。該例證明了光學(xué)元件的傾斜和位移對(duì)干涉條紋圖的影響。 mh[75( I\JGs@I 建模任務(wù) Ab"@714@ K]"#C
/j|G(vt5 aL&7 1^R, 由于組件傾斜引起的干涉條紋 6U,O*WJ%e ouFYvtF
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