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利用SLM輔助納秒激光技術(shù)制備鉻薄膜上的雜化周期微結(jié)構(gòu)

發(fā)布:中科微星 2024-08-15 18:12 閱讀:114
空間光調(diào)制器是一種可以在外部信號(hào)的控制下實(shí)時(shí)改變?nèi)肷涔獾恼穹、相位及偏振態(tài)的動(dòng)態(tài)元器件。將空間光調(diào)制器應(yīng)用在激光加工領(lǐng)域,可以實(shí)現(xiàn)動(dòng)態(tài)光束整形,并且具有可編程、易操控、易集成、低損耗、刷新頻率高等優(yōu)勢(shì)。并且隨著空間光調(diào)制器損傷閾值的提升,激光加工的應(yīng)用領(lǐng)域也不斷擴(kuò)大,例如超表面結(jié)構(gòu)制造、微流體、3D打印、光存儲(chǔ)、材料表面改性、量子點(diǎn)等領(lǐng)域。 K@I D/]PF  
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F5P[dp-`1  
論文信息 W-mQjJ`,B  
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本文提出了一種利用空間光調(diào)制器(SLM)輔助1064nm納秒激光器制備不同厚度鉻(Cr)薄膜上的不同雜化周期結(jié)構(gòu)的有效技術(shù)。對(duì)于1000nm的Cr薄膜,通過將SLM生成的周期調(diào)制光柵(MG)與激光誘導(dǎo)的周期表面結(jié)構(gòu)(LIPSS)相結(jié)合,可以制備出規(guī)則的雙尺度MG-LIPSS,其形態(tài)特征受激光通量、有效脈沖數(shù)和MG周期控制。由于MG和LIPSS的衍射效應(yīng),MG-LIPSS圖案表面表現(xiàn)出生動(dòng)的各向異性結(jié)構(gòu)顏色。與MG-LIPSS相比,由于更薄的薄膜具有更顯著的熱應(yīng)力,因此在200nm的Cr薄膜上形成了由MG和裂紋(MGC)組成的復(fù)雜的周期結(jié)構(gòu)。雖然MGC的裂紋是隨機(jī)分布的,但MGC具有一定透光率的長階特性,可以作為具有衍射效應(yīng)的[color=var(--weui-LINK)]透射光柵。這些結(jié)果表明,基于SLM的光場調(diào)制激光加工為在Cr薄膜上制備大面積周期結(jié)構(gòu)提供了一種高效、經(jīng)濟(jì)、可控的方法。此外,薄膜厚度的變化可以用于探索具有特定性能的混合微觀結(jié)構(gòu),從而用于不同的應(yīng)用,如光學(xué)元件和防偽措施等。 ,K)_OVB  
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部分實(shí)驗(yàn)過程及實(shí)驗(yàn)結(jié)果 ,K9*%rW)  
光源采用商業(yè)納秒激光器,提供1064nm、50ns的線偏振[color=var(--weui-LINK)]脈沖激光,實(shí)驗(yàn)時(shí)重頻設(shè)置為3kHz,對(duì)應(yīng)的激光器最大輸出功率為0.45W。激光器出射的光通過4×擴(kuò)束鏡,從而使光斑充滿液晶光閥靶面,實(shí)驗(yàn)中使用的是相位型空間光調(diào)制器(FSLM-2K70-VIS),像素大小為8um,分辨率為1920×1080。經(jīng)空間光調(diào)制器調(diào)制后通過透鏡作用在樣品上,通過CCD實(shí)時(shí)監(jiān)測加工過程,確保樣品表面始終在加工平面。采用Gerchberg Saxton算法生成全息圖。 >/l? g5{  
)'l:K.F  
圖1 (a)實(shí)驗(yàn)裝置(相位型空間光調(diào)制器,型號(hào):FSLM-2K70-VIS);(b)原始光束和調(diào)光束。
圖2 1000nmCr薄膜隨著激光通量的增加,MG-LIPSS在4個(gè)不同的調(diào)制周期Γ下形成的MG-LIPSS的SEM形貌。比例尺:5 μm。
圖3 (a)-(c) 1000nmCr薄膜在不同有效脈沖數(shù)下形成的MG-LIPSS的掃描電鏡形貌。比例尺:5 μm。
圖4 (a)0.27J/cm²和(e)0.32 J/cm²分別對(duì)應(yīng)不同激光照射下MG-LIPSS結(jié)構(gòu)的AFM測量。(b)和(f)分別對(duì)應(yīng)于(a)和(e)的SEM圖像的二維快速傅里葉變換。(c)和(d)對(duì)應(yīng)于(a)的MG-LIPSS的LIPSS和MG橫截面的二維圖。(g)和(h)對(duì)應(yīng)于(e)的MG-LIPSS的LIPSS和MG橫截面的二維圖。比例尺:5 μm。
圖5 (a-b)在不同位置的兩個(gè)不同激光通量F下制備的MG-LIPSS的微拉曼光譜。(c-f)在不同激光通量F下制備的MG-LIPSS的EDS結(jié)果(收集點(diǎn)位于圖中紅色標(biāo)記處)。比例尺:5 μm。
(;T^8mI2  
圖6 對(duì)于200nm的Cr薄膜,在不同加工條件下形成的MGC的掃描電鏡形貌。(a) Γ2=8 μm,F=0.16 J/cm²。(b) Γ3=9 μmF=0.16 J/ cm²。(c) Γ4=13 μm,F=0.16 J/cm²。(d) Γ4= 13 μm,F=0.30 J/cm²。比例尺:5 μm
D{GfL ib"U  
圖7 MG-LIPSS的彩虹結(jié)構(gòu)顏色。(a)在1000nmCr薄膜上形成的MG-LIPSS混合周期結(jié)構(gòu)的白光衍射示意圖,由LIPSS和MG分別在兩個(gè)正交方向上產(chǎn)生彩虹結(jié)構(gòu)顏色。(b)“中山大學(xué)”的漢字圖案用1000nm的Cr涂覆在直徑為100 mm的玻璃晶片上。(c)處理后的樣品。(d)和(e)分別對(duì)“中山大學(xué)”圖案和龍圖案進(jìn)行著色。(f)和(g)MG-LIPSS“3″為對(duì)不同觀察角度的彩虹色結(jié)構(gòu)顏色的不同呈現(xiàn)。比例尺:5mm。
^2Fei.?T.  
 gbF+WE  
本實(shí)驗(yàn)中所采用空間光調(diào)制器的參數(shù)規(guī)格如下:
T|nDTezr  
型號(hào) U' H$`$Ov  
FSLM-2K70-P03 PVe xa|aaX  
調(diào)制類型 (}Z@R#njH  
相位型 I'A_x$ib6  
液晶類型 Zq+v6fk_Mn  
反射式灰度等級(jí)8位,256階 [tlI!~Z  
分辨率 );#JL0I  
1920×1080像元大小8μm
有效區(qū)域 FHj" nB  
24 [+pu  
0.69" tXNm$Cq.|  
15.36mm×8.64mm
填充因子87%
wH>a~C:  
平整度(PV)
Gr*r=s  
校準(zhǔn)前:5λ
校準(zhǔn)后:1λ
J1( 9QN[w  
平整度(RMS)
Sc\*W0m  
校準(zhǔn)前:1/3λ o_XflzC  
校準(zhǔn)后:1/10λ
wxKX{Bs  
刷新頻率
pmuvg6@h  
60Hz
GWZ }7ake  
響應(yīng)時(shí)間
TrlZ9?3#D  
≤30ms ff]6aR/ UQ  
;rF\kX&Jh  
光學(xué)利用率
MI/MhkS ?  
75%@1064nm
;O,+2VzP%^  
配向角
Lt u'W22  
>"^ O"E  
相位范圍
Si_ _8D  
2π@1064nm ni.cTOSx  
Max:2.1π@1064nm
(up~[  
光譜范圍
]OM"ZG/^  
450nm-1100nm
~-ia+A6GIV  
Gamma校正
<CS(c|7  
支持
YN/|$sMD|  
相位校正
L uq#9(P  
支持(808nm/1064nm)
k Z?=AXu  
線性度
&TUWW