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    [技術(shù)]高NA物鏡聚焦的分析 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 08-20
    摘要 b&p*IyJR  
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    高NA物鏡廣泛用于光學(xué)光刻，顯微鏡等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考慮光的矢量性質(zhì)。 使用VirtualLab對(duì)這種鏡頭進(jìn)行光線追跡和場(chǎng)追跡分析非常方便。通過(guò)場(chǎng)追跡，可以清楚地展示不對(duì)稱焦斑，這源于矢量效應(yīng)。相機(jī)探測(cè)器和電磁場(chǎng)探測(cè)器為聚焦區(qū)域的研究提供了充分的靈活性，可以讓用戶深入了解矢量效應(yīng)。 Yd lXMddE  
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