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摘要 1hW"#>f7 } S6" $R 高NA物鏡廣泛用于光學(xué)光刻，顯微鏡等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考慮光的矢量性質(zhì)。 使用VirtualLab對(duì)這種鏡頭進(jìn)行光線追跡和場(chǎng)追跡分析非常方便。通過(guò)場(chǎng)追跡，可以清楚地展示不對(duì)稱焦斑，這源于矢量效應(yīng)。相機(jī)探測(cè)器和電磁場(chǎng)探測(cè)器為聚焦區(qū)域的研究提供了充分的靈活性，可以讓用戶深入了解矢量效應(yīng)。 I3d!!L2ma Jq_AR!} %  @aUQy; o>Q=V 0? 建模任務(wù) EJ=ud9 ><H*T{
Pg  agj_l}=gO 概觀 #T$yQ;eQ v&Oc,W  $n* wS, 光線追跡仿真 y-lBaTE9 F-PQ`@ZNW •首先選擇“光線追跡系統(tǒng)分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作為仿真引擎。 >wf.C% i2X%xYv ^
•點(diǎn)擊Go！ Sq[LwJ
•獲得3D光線追跡結(jié)果。 Lb}
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