上海光機(jī)所在自由曲面光學(xué)元件面形自適應(yīng)干涉檢測(cè)領(lǐng)域取得進(jìn)展
近日,中科院上海光機(jī)所高功率激光元件技術(shù)與工程部光學(xué)檢測(cè)與表征中心研究團(tuán)隊(duì),在自由曲面光學(xué)元件面形自適應(yīng)干涉檢測(cè)領(lǐng)域取得新進(jìn)展,相關(guān)成果以“Fast, intelligent and high-precision adaptive null interferometry for optical freeform surfaces by backpropagation”為題發(fā)表于Optics Express。 針對(duì)現(xiàn)有自適應(yīng)波前干涉術(shù)(AWI)所存在的分步和無(wú)模型優(yōu)化的局限性,該研究提出了基于反向傳播的確定性自適應(yīng)波前干涉術(shù)(DAWI)。與AWI不同,DAWI在自適應(yīng)波前補(bǔ)償過(guò)程中不完整干涉條紋的重建和疏化是同時(shí)進(jìn)行的,從而可以大大提高測(cè)試效率。為提升DAWI的優(yōu)化性能,該研究還提出了AdaGradDec梯度下降優(yōu)化器。實(shí)驗(yàn)證明,相較于三步法AWI,DAWI在條紋重建中的迭代次數(shù)減少了至少20倍。 |