我們有臺(tái)鍍膜機(jī)H4電子槍充氧量用的壓控，設(shè)計(jì)充到1.0-2，但每一鍋都不太穩(wěn)定，有時(shí)候充到7.5-3，有時(shí)候充到8.3-3，也有能充到1.0-2的，H4是手動(dòng)熔的，一般就鍍普通AR,導(dǎo)致分光變來(lái)變?nèi)�，穩(wěn)定不住 ，請(qǐng)教大佬們，這種情況是藥里面雜質(zhì)多還是壓控控制系統(tǒng)有問(wèn)題？應(yīng)該怎么排除？

坐等分析

控制軟件PID參數(shù)調(diào)整一下，一般是可以恒壓的，當(dāng)然，如果放氣量很不穩(wěn)定也可能導(dǎo)致控制失敗 sRf?JyB  

1.手動(dòng)融料重復(fù)性不好 BF(.^oh"n0  
2鍍膜機(jī)真空度是否有漏氣現(xiàn)象 -H(\[{3{V  
3.充氧控制改固定參數(shù) 0!!z'm3  
4.真空計(jì)污染導(dǎo)致真空不準(zhǔn)確

yzhuang:控制軟件PID參數(shù)調(diào)整一下，一般是可以恒壓的，當(dāng)然，如果放氣量很不穩(wěn)定也可能導(dǎo)致控制失敗 3Bk_
4n  
 (2024-09-20 09:09)  4)XZ'~|  

R8U?s/*  
感謝回復(fù)，我們這個(gè)只能設(shè)定數(shù)值，PID調(diào)不了

度魔銀:1.手動(dòng)融料重復(fù)性不好 Sl?@c/Ng  
2鍍膜機(jī)真空度是否有漏氣現(xiàn)象 k_^|%xJ  
3.充氧控制改固定參數(shù) 0"*!0s~  
4.真空計(jì)污染導(dǎo)致真空不準(zhǔn)確 (2024-09-20 09:54)  SGuLL+|W#8  

Sas&P:#r  
感謝回復(fù)，我們先定量充氧試試

真空計(jì)和沖氧口的位置和距離很重要，如果壓力周期性波動(dòng)的話，就調(diào)整真空計(jì)位置。 @w H+,]xE  
但是現(xiàn)在看來(lái)好像是沖氧的壓控問(wèn)題。 Oc|`<^m  
真空計(jì)一般是用電壓信號(hào)，要保證壓控儀和真空計(jì)用的電壓定義是一樣的。 lBbUA)z6  
另外要排除信號(hào)干擾，如果真空信號(hào)受干擾了，那么肯定無(wú)法穩(wěn)定的進(jìn)行控制。 +EtL+Y(U  
最后一個(gè)應(yīng)該就是壓控儀本身的問(wèn)題，比如PID參數(shù)過(guò)大導(dǎo)致調(diào)節(jié)緩慢。 #fy#G}c  

ouyuu:真空計(jì)和沖氧口的位置和距離很重要，如果壓力周期性波動(dòng)的話，就調(diào)整真空計(jì)位置。 y5td o'Ex  
但是現(xiàn)在看來(lái)好像是沖氧的壓控問(wèn)題。 )9^0Qk' ]  
真空計(jì)一般是用電壓信號(hào)，要保證壓控儀和真空計(jì)用的電壓定義是一樣的。 AI$r^t1  
另外要排除信號(hào)干擾，如果真空信號(hào)受干擾了，那么肯定無(wú)法穩(wěn)定的進(jìn)行控制。 !N`$`qAK  
最后一個(gè)應(yīng) .. (2024-10-22 22:50)  OZ/P@`kN.f  

A,tmy',d"  
感謝大佬解惑，充氧口是固定的，真空計(jì)玻璃規(guī)的位置我們每次換沒(méi)注意位置，才知道這個(gè)也會(huì)影響真空數(shù)據(jù)，我們現(xiàn)在定量充氧40，分光比原來(lái)穩(wěn)定了很多，但每層H4充氧后的真空度都有差異

學(xué)習(xí)中成長(zhǎng)