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UID:317649
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- 注冊時間2020-06-19
- 最后登錄2025-02-21
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1. 摘要 Ha ]YJ} ;wVwX6:ZKr 隨著光學(xué)投影系統(tǒng)和激光材料加工單元等現(xiàn)代技術(shù)的發(fā)展,對光學(xué)器件的專業(yè)化要求越來越高。微透鏡陣列正是這些領(lǐng)域中一種常用元件。為了充分了解這些元件的光學(xué)特性,有必要對微透鏡陣列后各個位置的光傳播進(jìn)行模擬。在這個應(yīng)用案例中,我們將分別研究元件后近場、焦區(qū)以及遠(yuǎn)場特性。 Nluoqoac f
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