使用半導(dǎo)體光刻工藝量產(chǎn)平面透鏡的詳細步驟： y]veqa  
一、設(shè)計階段 rh6gB]X]3:  
首先，根據(jù)平面透鏡的預(yù)期用途（如成像、聚焦等），使用光學(xué)設(shè)計軟件（如 Zemax、Code V 等）來確定透鏡的光學(xué)參數(shù)。這些參數(shù)包括焦距、數(shù)值孔徑、工作波長范圍等。例如，對于一個用于可見光成像的平面透鏡，可能需要設(shè)計其焦距為 5mm，數(shù)值孔徑為 0.3，工作波長在 400 - 700nm 之間。 jM'kY|<g;  
根據(jù)光學(xué)設(shè)計結(jié)果，生成透鏡的表面輪廓數(shù)據(jù)。這個輪廓數(shù)據(jù)描述了透鏡表面的高度變化，通常以數(shù)字形式存儲，它將作為光刻工藝中的圖案設(shè)計基礎(chǔ)。 #nv