摘要 YQR[0Y&e=
@oD2_D2 可變角度橢圓偏振
光譜儀（VASE）是一種常用的技術(shù)，由于其對(duì)
光學(xué)參數(shù)的微小變化具有高靈敏度，而被用在許多使用
薄膜結(jié)構(gòu)的應(yīng)用中，如
半導(dǎo)體、光學(xué)涂層、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、平板制造等。在本用例中，我們演示了VirtualLab Fusion中的橢圓偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂層上的使用。對(duì)于
系統(tǒng)的參數(shù)，我們參考Woollam等人的工作 "可變角度橢圓偏振光譜儀（VASE）概述。I. 基本理論和典型應(yīng)用"，并研究該方法對(duì)輕微變化的涂層厚度有多敏感。
@J'tPW<$ 任務(wù)描述 S>s+ nqcP 鍍膜樣品 79+i4(H 橢圓偏振分析儀 {} H/N 總結(jié) - 組件...
$ qR@ ;= 橢圓偏振系數(shù)測(cè)量 H=mFc@fh 橢圓偏振分析儀測(cè)量反射系數(shù)（s-和p-極化分量）的比率𝜌，并輸出相位差𝛥，以及振幅分量Ψ，根據(jù)
G 4\|bwh 在VirtualLab Fusion中，復(fù)數(shù)系數(shù)𝑅p和𝑅s是通過(guò)應(yīng)用嚴(yán)格耦合波分析（RCWA），也被稱為傅里葉模態(tài)法（FMM）來(lái)計(jì)算。因此，在研究
光柵樣品的情況下，這些系數(shù)也可以是特定衍射階數(shù)的瑞利系數(shù)。
l,UOP[j 橢圓偏振對(duì)小厚度變化的敏感性 E<@N4%K_Q
