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訊技光電:VirtualLab Fusion獨(dú)家供應(yīng)商	微小光學(xué)與微透鏡陣列	光學(xué)設(shè)計(jì)與光學(xué)元件	計(jì)算光學(xué)帶來的成像革命

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— 本帖被 cyqdesign 從機(jī)械加工與制造移動(dòng)到本區(qū)(2010-12-09) —

工藝特點(diǎn)及其影響因素

l、激光的投入能量密度。調(diào)整激光照射能量密度的方法主要有：
A、調(diào)整激光輸出能量（調(diào)整激發(fā)電壓）
B、調(diào)整光斑大小（調(diào)節(jié)出射焦距）
C、改變光斑中的能量分布（改變光纖類型：峰形輸出型——GI型光纖、梯形輸出型―SI型光纖）
D、改變出射脈沖的寬度和波形

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