角放大率 `YIf_a{  
近軸像空間主光線的角度與近軸物空間主光線角度之比。角度的計算考慮近軸的入瞳和出瞳位置。 r}jGUe}d  
變跡法 Sx8OhUyux  
變跡法指的是光學系統(tǒng)的入瞳照明的均勻程度。在缺省的情況下入瞳總是均勻照明的。但在需要得時候，入瞳必須有必要采用非均勻照明。為此，支持入瞳變跡法，這樣使得入瞳上的光能量的振幅可為變量。ZEMAX支持三種入瞳變跡法：均勻分布，高斯分布和正切分布。對每一種振幅分布（除均勻分布），變跡因子決定了光能量振幅對入瞳變化比例。參見“系統(tǒng)菜單”中變跡類型和變跡因子的討論。 dtcIC0:[  
ZEMAX也支持用戶自定義變跡，而且用戶自定義變跡可置于任何一個表面。表面變跡的作用不同于入瞳變跡，原因在于表面不一定位于入瞳。關于表面變跡的更多信息，參見“表面類型”一章中的“用戶自定義表面”。 >`%'4<I  
后焦長度 a$Cdhx!  
ZEMAX定義后焦長度如下：最后一個玻璃面到與無窮遠物體共軛的近軸像面的Z軸方向上的距離。如果光學系統(tǒng)中沒有玻璃面，則后焦長度定義為第一個面到與無窮遠物體共軛的近軸像面的Z軸距離。 mD/MJt5  
基面 >J>b>SU=-  
基面這一術語（有時也稱為基點）源于那些特定的共軛位置，在這些位置上物面與像面有確定的放大率。 =-}[^u1  
基面包含主面（其上的橫向放大率為1），反基面（其上的橫向放大率為-1），節(jié)點平面（其上的角放大律為1），反節(jié)點平面（其上的角放大律為-1），焦平面（對像空間焦平面而言放大率為0，對物空間焦平面而言放大率為∞） th&[Nt7  
除焦平面以外，其他基面都是相互共軛的，也就是說像空間的主平面和物空間的主平面共軛，其它依此類推。如果像空間和物空間的折射率相等，節(jié)點平面和主平面重合。 :M6+p'`j  
ZEMAX列出了像面到不同的像空間平面的距離，同時也列出了第一個面到不同的物空間平面的距離。 !ki.t  
主光線 $.[#0lCI  
如果光學系統(tǒng)沒有漸暈并且沒有像差，主光線就被定義為通過特殊場點的光線，它通過入瞳中心，到像平面上。請注意，在沒有漸暈和像差的情況下，任何通過入瞳中心的光線也將通過孔徑光闌和出瞳的中心。 =%>oR  
考慮漸暈因子時，主光線被認為是通過漸暈瞳中心的光線，這意味著主光線不一定通過光闌的中心。 3dRr/Ilc  
如果存在入瞳像差（事實上的確存在入瞳像差），那么主光線可能通過近軸入瞳的中心（如果沒有使用光線瞄準），或者光闌的中心（如果使用光線瞄準），但在通常情況下，主光線既不通過近軸入瞳的中心，也不通過光闌的中心。 gw}Mw  
如果有漸暈因子使得入瞳偏軸，那么主光線將通過漸暈入瞳（如果不使用光線瞄準），或者漸暈光闌表面（使用光線瞄準）。