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    [分享]光學(xué)設(shè)計中的名詞解釋 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2007-06-01
    角放大率 r 3W3;L   
    近軸像空間主光線的角度與近軸物空間主光線角度之比。角度的計算考慮近軸的入瞳和出瞳位置。 T.4&P#a1  
    變跡法 KwuucY  
    變跡法指的是光學(xué)系統(tǒng)的入瞳照明的均勻程度。在缺省的情況下入瞳總是均勻照明的。但在需要得時候,入瞳必須有必要采用非均勻照明。為此,支持入瞳變跡法,這樣使得入瞳上的光能量的振幅可為變量。ZEMAX支持三種入瞳變跡法:均勻分布,高斯分布和正切分布。對每一種振幅分布(除均勻分布),變跡因子決定了光能量振幅對入瞳變化比例。參見“系統(tǒng)菜單”中變跡類型和變跡因子的討論。 p+;& Gg54  
    ZEMAX也支持用戶自定義變跡,而且用戶自定義變跡可置于任何一個表面。表面變跡的作用不同于入瞳變跡,原因在于表面不一定位于入瞳。關(guān)于表面變跡的更多信息,參見“表面類型”一章中的“用戶自定義表面”。 7l D-|yx  
    后焦長度 w G