2.Use the RSI ray for the upper marginal ray for field 2 to determine the obscurations dHOz;4_  
on surfaces 2 and 3 (Hint: look at the ray height on S5). These obscurations make a <w2Nh eM 3  
hole in the corrector to prevent the light from passing through the corrector lens v8pUt\m"  
twice. \vm'D'9  
&BE[=& |  
3. Use a targeted ray for the negative full field to hit the edge of the obscuration on 1/1P;8F@G  
surface 2 to determine the size of the obscuration on surface 1. This obscuration #UXmTrZ.  
prevents ghost images (prevents rays from going through the hole in the corrector %FyB\IQ  
lens). ;\#u19  
QAb[M\G  
請(qǐng)各位前輩指點(diǎn)一下 看不太懂它要表達(dá)的意思 此為code v使用手冊(cè)的一個(gè)範(fàn)例  謝謝

2. RSI 是real ray trace命令，你可以查找下手冊(cè)看看，在這里upper marginal ray是CodeV內(nèi)定的光線R2, F2就是你定義的視場(chǎng)中的第二個(gè)視場(chǎng)（如果你只定義了0視場(chǎng)和最大視場(chǎng)，那F2就是最大視場(chǎng)）。整句話的意思就是通過RSI R2 F2 命令來確定 S2&S3上的攔光孔。這些攔光孔在矯正器上形成了孔，防止光線兩次通過矯正器。 {[Yv@CpN  
P, S9gG9  
3. 利用負(fù)視場(chǎng)下確定目標(biāo)的光線來追跡到S2上攔光孔的邊緣來確定S1上攔光孔的大小。這個(gè)孔用來預(yù)防鬼像。

學(xué)習(xí)~~~~~~