基底對光學(xué)薄膜弱吸收測量的影響

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主要鍍膜材料及其性能和用途 kNC]q,ljt5  
名稱  　　折射率  　　透光范圍  　　蒸發(fā)溫度(℃)  　　　蒸發(fā)源  　　　　　　應(yīng)用 =67tQx58  
三氧化二鋁  1.62/550nm  200~5000  2000-2200  　　　電子槍  　增透膜、多層膜 oaGpqjBGQ  
氟化鈰  　　1.63/500nm  300~5000  1429  　　　鉬，鉭，電子槍  增透膜、多層膜 >`)IdX  
氧化鈰  　2.35/500nm  400~16000  1950  　　　　　　電子槍  　　　增透膜 !wr2OxK*  
冰晶石  　1.33/500nm  250~14000  1000  　鉬，鉭，電子槍  　　　　　增透膜 bo_Tp~j  
氧化鉿  　1.95/500nm  230~7000  2500  　　電子槍  　　　紫外-近紅外多層膜 Uy;e5<<  
透明導(dǎo)電膜料  2.0/500nm  400~800  1450  　電子槍，Al2O3  　透明導(dǎo)電膜 Z_WJgH2c  
氟化鈣  　1.23-1.42/550nm  150~12000  1280~1400  鉬，鉭，鎢  增透膜 ]S0sjN  
氟化鎂  　1.38/550nm  130~7000  1300~1600  　 鉬，鉭，鎢  增透膜、多層膜 t_NnQ4)
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氧化鎂  　　1.7/500nm  200~8000  2000  　 電子槍  　　　　多層膜 <d] t{M62W  
鋯鈦混合物  2.1/500nm  400~7000  2300  　鎢，電子槍  　　增透膜 w#w?Y!JXo  
氧化鈧  1.89/500nm  250~5000  　2430 　　 電子槍  　　　 紫外多層膜 =&x u"V  
二氧化硅  1.45/500nm  200~2000  1600~2200  電子槍  　　多層膜 i"OY=iw-N  
一氧化硅  1.55/550nm  600~8000  1200~1600  鉬，鉭，鎢  增透膜、保護(hù)膜 mNdEn<W  
五氧化二鉭  2.1/500nm  400~7000  1950  電子槍  增透膜 ,k+F8{Q.  
一氧化鈦  2.35/500nm  400~12000  1700~2000  電子槍  多層膜、分光膜 R$M>[Kjn  
二氧化鈦  2.35/500nm  400~12000  2200  電子槍  增透膜、多層膜 qt,;Yxx#^  
氧化釔  1.87/550nm  400~8000  2500  電子槍  增透膜、多層膜 9`|~-b  
氧化鋯  2.05/500nm  250~7000  2500  電子槍  增透膜、多層膜 gK",D^6T*Y  
三氧化二鈦  2.35/500nm  400~12000  1800~2000  鉭，鎢電子槍  增透膜、多層膜 d45mKla(V  
氟化鋇  1.4/10600nm  220~11000  1280  鉬，鉭，鉑  紫外-遠(yuǎn)紅外膜、多層膜、增透膜 )^[PW&=W|x  
氟化鑭  1.58/500nm  220~14000  1450  鉬，電子槍  增透膜 aC,?FWm  
硅  3.4/3000nm  1000~9000  1500  電子槍  紅外膜 ]`T*}$|  
鍺  4.4/2000nm  1700~23000  1300~1500  電子槍，鎢  紅外膜 f6U