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    [分享]基底對(duì)光學(xué)薄膜弱吸收測(cè)量的影響 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2007-08-09
    基底對(duì)光學(xué)薄膜弱吸收測(cè)量的影響
    描述:基底對(duì)光學(xué)薄膜弱吸收測(cè)量的影響
    附件: 基底對(duì)光學(xué)薄膜弱吸收測(cè)量的影響.rar (184 K) 下載次數(shù):7 ，該附件已加密，擁有100威望才能下載
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    flyinlove79 金錢 +3 威望是設(shè)的有點(diǎn)高啊 多謝 .. 2007-08-09
     
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    只看該作者 1樓 發(fā)表于: 2007-08-09
    haODONGXI!!
    離線lilylyl
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    只看該作者 2樓 發(fā)表于: 2007-08-09
    主要鍍膜材料及其性能和用途 IKb 7#Ut  
    名稱  　　折射率  　　透光范圍  　　蒸發(fā)溫度(℃)  　　　蒸發(fā)源  　　　　　　應(yīng)用 ~T7\lJ{%G  
    三氧化二鋁  1.62/550nm  200~5000  2000-2200  　　　電子槍  　增透膜、多層膜 44B)=p7  
    氟化鈰  　　1.63/500nm  300~5000  1429  　　　鉬，鉭，電子槍  增透膜、多層膜 V7.xKmB  
    氧化鈰  　2.35/500nm  400~16000  1950  　　　　　　電子槍  　　　增透膜 /