摘要: 大規(guī)模生產(chǎn)高質(zhì)量薄膜產(chǎn)品是今后鍍膜設(shè)備需要解決的問題。等離子體或離子輔助鍍膜現(xiàn)在被廣泛應(yīng)用于高質(zhì)量膜系生產(chǎn)中并取得了良好的效果,但是主要由于等離子體或離子源的原因,產(chǎn)能不高。本文介紹了一種新型精密光學(xué)鍍膜系統(tǒng)和一種新型濺射鍍膜系統(tǒng)。新的系統(tǒng)能夠優(yōu)質(zhì)高效地生產(chǎn)復(fù)雜膜系,特別適合大規(guī)模生產(chǎn)。 Op'&c0l
-O^R~Q_`w
關(guān)鍵詞:等離子輔助沉積,濺射鍍膜,光學(xué)鍍膜