摘要： 大規(guī)模生產(chǎn)高質量薄膜產(chǎn)品是今后鍍膜設備需要解決的問題。等離子體或離子輔助鍍膜現(xiàn)在被廣泛應用于高質量膜系生產(chǎn)中并取得了良好的效果，但是主要由于等離子體或離子源的原因，產(chǎn)能不高。本文介紹了一種新型精密光學鍍膜系統(tǒng)和一種新型濺射鍍膜系統(tǒng)。新的系統(tǒng)能夠優(yōu)質高效地生產(chǎn)復雜膜系，特別適合大規(guī)模生產(chǎn)。 L)'JkX J
%:n1S]Vr
關鍵詞：等離子輔助沉積，濺射鍍膜，光學鍍膜
