最近鍍YAG晶體，采用的是離子輔助蒸發(fā)的方法，牢固度，光學特性都很好，但是發(fā)現(xiàn)表面又很多點。不用離子源就會好狠多，不是何原因？我用的時考夫曼源，能量在200V以下，應該不算高。請各位大蝦指教。

有可能是真空室不夠干凈，有浮塵。

請教一樓，離子源能把浮塵打下來嗎？我問過空間中心的人，他們說不可能。我也搞不清咋回事了。

這個應該就是工藝問題了，以前記得在哪里也見到過這個問題，后來不知道他們怎么解決的，潔凈度、真空度、返油、烘烤溫度等都有可能。

不好意思，我自己也沒有用過離子源，只是聽人家說過有這種情況

哈哈，你可以咨詢一下3樓的啦

真空室潔凈度不高造成

請教六樓，你們如何清洗真空室呢？我們一般用砂紙打磨后，再用布和酒精擦拭，看來這樣是不是不行呀？！

我們直接把護皮取下來，在水里用砂紙打磨，別的地方就直接用砂紙打磨，再用布和酒精擦拭啦

我們基本上也是這么做的，不過有些地方實在是不好清洗，我們用的是南光的鍍膜機。請問8樓的版主在那里高就，是南方還是北方？