1. 打底層最好用TiO2 m>+A*M8  
2. 機器不要加溫，把能量放到IBS這邊； z'v9j_\  
3. IBS的能量要有一個梯度 zh hGqz[K  
4. 整個鍍膜后的溫度要用測溫紙測一下，以此來判斷你IBS的energy是否合理

TiO2和SiO2薄膜應力的產(chǎn)生機理及實驗探索.zip (144 K) 下载次数:80 <(ubZ  
FK?mS>G6  
膜裂一般是由應力產(chǎn)生的，一般來講，張力會造成膜裂。 re2Fv:4{  
而在常溫下，SiO2表現(xiàn)為張力，TiO2表現(xiàn)為壓力。 @ICejB<  
所以按原理來講，第一層鍍TiO2對膜裂的改善會比較好。 fjF!
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Rqt[D @;m  
而且從附件論文的數(shù)據(jù)來看，開IAD比不開要好。 y`T--v3mI  
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但是如果膜裂是由吸水造成的，那又是另外一種情況。 yDDghW'\WU  
最好用鹵素燈加熱一下，鍍膜前再離子源打一下做一下表面的清潔。 w@4t$
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只要不超過90度是沒什么問題的。

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