1. 打底層最好用TiO2 ]AZ\5C-J  
2. 機(jī)器不要加溫，把能量放到IBS這邊； DPS1GO*  
3. IBS的能量要有一個(gè)梯度 lc3S|4  
4. 整個(gè)鍍膜后的溫度要用測(cè)溫紙測(cè)一下，以此來(lái)判斷你IBS的energy是否合理

TiO2和SiO2薄膜應(yīng)力的產(chǎn)生機(jī)理及實(shí)驗(yàn)探索.zip (144 K) 下载次数:80 >^H'ZYzw  
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膜裂一般是由應(yīng)力產(chǎn)生的，一般來(lái)講，張力會(huì)造成膜裂。 pqH( Tbjq  
而在常溫下，SiO2表現(xiàn)為張力，TiO2表現(xiàn)為壓力。 <=m 30{;f  
所以按原理來(lái)講，第一層鍍TiO2對(duì)膜裂的改善會(huì)比較好。 )+w/\~@  
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而且從附件論文的數(shù)據(jù)來(lái)看，開(kāi)IAD比不開(kāi)要好。 iFnOl*TC  
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但是如果膜裂是由吸水造成的，那又是另外一種情況。 Wd^lt7(j  
最好用鹵素?zé)艏訜嵋幌�，鍍膜前再離子源打一下做一下表面的清潔。 T@Ss&eGT2  
只要不超過(guò)90度是沒(méi)什么問(wèn)題的。

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