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[討論]鍍膜點(diǎn) [復(fù)制鏈接]

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離線yufe16

技術(shù)員

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只看樓主倒序閱讀樓主發(fā)表于: 2007-12-13

鍍膜過程中的點(diǎn)是怎么形成的呢？它們是在膜層表面還是膜層之間呢？如何減少鍍膜點(diǎn)？
請(qǐng)各位大俠指教！

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離線o7758521

實(shí)習(xí)生

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只看該作者 1樓發(fā)表于: 2007-12-15

大蝦，能不能說的具體點(diǎn)，詳細(xì)點(diǎn)。？？？？

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離線flyinlove79

論壇版主

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只看該作者 2樓發(fā)表于: 2008-01-12

點(diǎn)子的成因很多，有材料崩濺，鍍膜面有浮塵，基底腐蝕等等，有可能在基底表面，也有可能在膜層中間，還有可能在膜層表面。

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離線yufe16

技術(shù)員

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只看該作者 3樓發(fā)表于: 2008-01-21

是鍍膜基質(zhì)表面的浮塵，我們用的設(shè)備沒有離子源，怎么在現(xiàn)有的基礎(chǔ)上，降低鍍膜機(jī)內(nèi)的灰塵？使灰塵在抽真空過程中不流動(dòng)起來呢？另外，我們鍍出來的產(chǎn)品不是全都點(diǎn)很多，而是一部分，分層數(shù)的，往往是頂部靠近公轉(zhuǎn)架那塊外觀很差，請(qǐng)問各位大俠，這是什么原因，怎么解決呢��？

[ 此貼被yufe16在2008-01-22 21:07重新編輯 ]